Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1973
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年代:1973
 
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21. Primary oxygen ion implantation effects on depth profiles by secondary ion emission mass spectrometry
  Applied Physics Letters,   Volume  23,   Issue  5,   1973,   Page  260-262

R. K. Lewis,   J. M. Morabito,   J. C. C. Tsai,  

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22. The superconductor‐semiconductor Schottky barrier diode detector
  Applied Physics Letters,   Volume  23,   Issue  5,   1973,   Page  263-264

M. McColl,   M. F. Millea,   A. H. Silver,  

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23. A new method for the determination of the interface‐state density in the presence of statistical fluctuations of the surface potential
  Applied Physics Letters,   Volume  23,   Issue  5,   1973,   Page  265-267

G. Baccarani,   M. Severi,   G. Soncini,  

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24. Anomalous residual damage in Si after annealing of ``through‐oxide'' arsenic implantations
  Applied Physics Letters,   Volume  23,   Issue  5,   1973,   Page  268-270

T. R. Cass,   V. G. K. Reddi,  

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25. Trapped plasma triggered by carrier injection
  Applied Physics Letters,   Volume  23,   Issue  5,   1973,   Page  271-272

H. Kawamoto,  

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26. High‐quantum‐efficiency infrared up‐conversion
  Applied Physics Letters,   Volume  23,   Issue  5,   1973,   Page  273-275

Thomas R. Gurski,  

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27. Observation of a new domain configuration in polycrystalline FeSi films
  Applied Physics Letters,   Volume  23,   Issue  5,   1973,   Page  276-278

I. Pockrand,   J. Verweel,  

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28. Processing and properties of superconducting V3Ga composites
  Applied Physics Letters,   Volume  23,   Issue  5,   1973,   Page  279-280

D. G. Howe,   L. S. Weinman,   R. A. Meussner,  

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29. High‐resolution Hgl2x‐ray spectrometers
  Applied Physics Letters,   Volume  23,   Issue  5,   1973,   Page  281-282

S. P. Swierkowski,   G. A. Armantrout,   R. Wichner,  

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30. A new scanning microdiffraction technique
  Applied Physics Letters,   Volume  23,   Issue  5,   1973,   Page  283-284

K. J. van Oostrum,   A. Leenhouts,   A. Jore,  

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