Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1983
当前卷期:Volume 42  issue 3     [ 查看所有卷期 ]

年代:1983
 
     Volume 42  issue 1   
     Volume 42  issue 2   
     Volume 42  issue 3
     Volume 42  issue 4   
     Volume 42  issue 5   
     Volume 42  issue 6   
     Volume 42  issue 7   
     Volume 42  issue 8   
     Volume 42  issue 9   
     Volume 42  issue 10   
     Volume 42  issue 11   
     Volume 42  issue 12   
     Volume 43  issue 1   
     Volume 43  issue 2   
     Volume 43  issue 3   
     Volume 43  issue 4   
     Volume 43  issue 5   
     Volume 43  issue 6   
     Volume 43  issue 7   
     Volume 43  issue 8   
     Volume 43  issue 9   
     Volume 43  issue 10   
     Volume 43  issue 11   
     Volume 43  issue 12   
21. Characteristics of modulation‐doped AlxGa1−xAl/GaAs field‐effect transistors: Effect of donor‐electron separation
  Applied Physics Letters,   Volume  42,   Issue  3,   1983,   Page  262-264

T. J. Drummond,   R. Fischer,   S. L. Su,   W. G. Lyons,   H. Morkoc¸,   K. Lee,   M. S. Shur,  

Preview   |   PDF (229KB)

22. Evaluation of aluminum‐GaAs Schottky barriers using Norde’s modified current‐voltage analysis
  Applied Physics Letters,   Volume  42,   Issue  3,   1983,   Page  265-267

G. P. Schwartz,   G. J. Gualtieri,  

Preview   |   PDF (228KB)

23. Characteristics of Schottky diodes at 10.6 &mgr;m
  Applied Physics Letters,   Volume  42,   Issue  3,   1983,   Page  268-269

N. Inoue,   K. Harakawa,   Y. Yasuoka,  

Preview   |   PDF (134KB)

24. Orientation effect of self‐aligned source/drain planar GaAs Schottky barrier field‐effect transistors
  Applied Physics Letters,   Volume  42,   Issue  3,   1983,   Page  270-271

N. Yokoyama,   H. Onodera,   T. Ohnishi,   A. Shibatomi,  

Preview   |   PDF (135KB)

25. Plasma enhanced beam deposition of thin dielectric films
  Applied Physics Letters,   Volume  42,   Issue  3,   1983,   Page  272-274

R. P. H. Chang,   S. Darack,  

Preview   |   PDF (231KB)

26. Residual double acceptors in bulk GaAs
  Applied Physics Letters,   Volume  42,   Issue  3,   1983,   Page  274-276

K. R. Elliott,  

Preview   |   PDF (234KB)

27. Infrared to visible up‐conversion using GaP light‐emitting diodes
  Applied Physics Letters,   Volume  42,   Issue  3,   1983,   Page  276-278

W. Eisfeld,   U. Werling,   W. Prettl,  

Preview   |   PDF (256KB)

28. Origin of the difference in the open circuit voltage betweenp‐i‐ntype andn‐i‐ptype hydrogenated amorphous silicon solar cells
  Applied Physics Letters,   Volume  42,   Issue  3,   1983,   Page  279-281

I. Sakata,   Y. Hayashi,  

Preview   |   PDF (223KB)

29. Time‐resolved x‐ray diffraction measurement of the temperature and temperature gradients in silicon during pulsed laser annealing
  Applied Physics Letters,   Volume  42,   Issue  3,   1983,   Page  282-284

B. C. Larson,   C. W. White,   T. S. Noggle,   J. F. Barhorst,   D. M. Mills,  

Preview   |   PDF (206KB)

30. Determination of grain boundary barrier height and interface states by a focused laser beam
  Applied Physics Letters,   Volume  42,   Issue  3,   1983,   Page  285-287

E. Poon,   E. S. Yang,   H. L. Evans,   W. Hwang,   R. M. Osgood,  

Preview   |   PDF (207KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第3页 共37条