Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1991
当前卷期:Volume 59  issue 19     [ 查看所有卷期 ]

年代:1991
 
     Volume 58  issue 1   
     Volume 58  issue 2   
     Volume 58  issue 3   
     Volume 58  issue 4   
     Volume 58  issue 5   
     Volume 58  issue 6   
     Volume 58  issue 7   
     Volume 58  issue 8   
     Volume 58  issue 9   
     Volume 58  issue 10   
     Volume 58  issue 11   
     Volume 58  issue 12   
     Volume 58  issue 13   
     Volume 58  issue 14   
     Volume 58  issue 15   
     Volume 58  issue 16   
     Volume 58  issue 17   
     Volume 58  issue 18   
     Volume 58  issue 19   
     Volume 58  issue 20   
     Volume 58  issue 21   
     Volume 58  issue 22   
     Volume 58  issue 23   
     Volume 58  issue 24   
     Volume 58  issue 25   
     Volume 59  issue 1   
     Volume 59  issue 2   
     Volume 59  issue 3   
     Volume 59  issue 4   
     Volume 59  issue 5   
     Volume 59  issue 6   
     Volume 59  issue 7   
     Volume 59  issue 8   
     Volume 59  issue 9   
     Volume 59  issue 10   
     Volume 59  issue 11   
     Volume 59  issue 12   
     Volume 59  issue 13   
     Volume 59  issue 14   
     Volume 59  issue 15   
     Volume 59  issue 16   
     Volume 59  issue 17   
     Volume 59  issue 18   
     Volume 59  issue 19
     Volume 59  issue 20   
     Volume 59  issue 21   
     Volume 59  issue 22   
     Volume 59  issue 23   
     Volume 59  issue 24   
     Volume 59  issue 25   
     Volume 59  issue 26   
     Volume 59  issue 27   
31. Measurement and modeling of the fast collapse of HgCdTe metal‐insulator‐semiconductor devices
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  19,   1991,   Page  2439-2441

M. Meyassed,   Y. Nemirovsky,  

Preview   |   PDF (378KB)

32. Effects of material processing in high temperature superconducting magnetic bearings
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  19,   1991,   Page  2442-2444

C. K. McMichael,   K. B. Ma,   M. W. Lin,   M. A. Lamb,   R. L. Meng,   Y. Y. Xue,   P. H. Hor,   W. K. Chu,  

Preview   |   PDF (392KB)

33. In‐plane anisotropic transport properties observed in epitaxial Bi2(Sr,Ca)3Cu2Oxfilms grown on tilted (001)SrTiO3substrate
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  19,   1991,   Page  2445-2447

J. Fujita,   T. Yoshitake,   T. Satoh,   S. Miura,   H. Tsuge,   H. Igarashi,  

Preview   |   PDF (344KB)

34. Synthesis of in‐plane aligneda‐axis YBa2Cu3O7−&dgr;thin films
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  19,   1991,   Page  2448-2450

K. H. Young,   J. Z. Sun,  

Preview   |   PDF (433KB)

35. Strong anisotropy of the resistive transition in Bi‐Sr‐Ca‐Cu‐O thin films prepared by metalorganic chemical vapor deposition
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  19,   1991,   Page  2451-2453

Shigenori Yuhya,   Koichi Nakao,   Tsunemi Sugimoto,   David J. Baar,   Yuh Shiohara,   Shoji Tanaka,  

Preview   |   PDF (308KB)

36. Suppression of the magnetic‐permeability relaxation in nanocrystalline Fe73.5Cu1Nb3Si13.5B9
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  19,   1991,   Page  2454-2456

P. Allia,   C. Beatrice,   F. Vinai,   M. Knobel,   R. Sato Turtelli,  

Preview   |   PDF (339KB)

37. Nanolithography of chemically prepared Si with a scanning tunneling microscope
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  19,   1991,   Page  2457-2459

S.‐T. Yau,   X. Zheng,   M. H. Nayfeh,  

Preview   |   PDF (454KB)

38. Simultaneous occurrence of multiphases in interfacial reactions of ultrahigh vacuum deposited Ti thin films on (111)Si
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  19,   1991,   Page  2460-2462

M. H. Wang,   L. J. Chen,  

Preview   |   PDF (557KB)

39. Cathodoluminescence from diamond films grown by plasma‐enhanced chemical vapor deposition in dilute CO/H2, CF4/H2, and CH4/H2mixtures
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  19,   1991,   Page  2463-2465

R. J. Graham,   J. B. Posthill,   R. A. Rudder,   R. J. Markunas,  

Preview   |   PDF (439KB)

40. Micrometer patterning of phthalocyanines by selective chemical vapor deposition
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  19,   1991,   Page  2466-2468

A. Sekiguchi,   K. Pasztor,   N. Shimo,   H. Masuhara,  

Preview   |   PDF (539KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第4页 共43条