Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1984
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31. Recombination enhanced defect annealing inn‐InP
  Applied Physics Letters,   Volume  45,   Issue  5,   1984,   Page  566-568

J. L. Benton,   M. Levinson,   A. T. Macrander,   H. Temkin,   L. C. Kimerling,  

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32. Failure of reciprocity in light‐induced changes in hydrogenated amorphous silicon alloys
  Applied Physics Letters,   Volume  45,   Issue  5,   1984,   Page  569-570

S. Guha,  

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33. Contact resistance improvements by implantation through an Al mask
  Applied Physics Letters,   Volume  45,   Issue  5,   1984,   Page  571-572

T. J. Faith,   J. J. O’Neill,   W. A. Hicinbothem,  

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34. Density of two‐dimensional electron gas in modulation‐doped structure with graded interface
  Applied Physics Letters,   Volume  45,   Issue  5,   1984,   Page  573-574

A. A. Grinberg,   M. S. Shur,  

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35. Surface photovoltage in hydrogenated amorphous silicon
  Applied Physics Letters,   Volume  45,   Issue  5,   1984,   Page  575-577

Shailendra Kumar,   S. C. Agarwal,  

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36. SF6enhanced nitridation of silicon in active nitrogen
  Applied Physics Letters,   Volume  45,   Issue  5,   1984,   Page  578-580

R. V. Giridhar,   K. Rose,  

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37. Phonon‐limited mobility in GaAlAs/GaAs heterostructures
  Applied Physics Letters,   Volume  45,   Issue  5,   1984,   Page  581-582

B. Vinter,  

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38. Niobium films for superconducting accelerating cavities
  Applied Physics Letters,   Volume  45,   Issue  5,   1984,   Page  583-584

C. Benvenuti,   N. Circelli,   M. Hauer,  

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39. Observation of magnetic domains with spin‐polarized secondary electrons
  Applied Physics Letters,   Volume  45,   Issue  5,   1984,   Page  585-586

K. Koike,   K. Hayakawa,  

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40. Origin of nonsymmetric dielectric relaxation in dipolar materials
  Applied Physics Letters,   Volume  45,   Issue  5,   1984,   Page  587-588

Koichi Shimakawa,  

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