Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1995
当前卷期:Volume 66  issue 2     [ 查看所有卷期 ]

年代:1995
 
     Volume 66  issue 1   
     Volume 66  issue 2
     Volume 66  issue 3   
     Volume 66  issue 4   
     Volume 66  issue 5   
     Volume 66  issue 6   
     Volume 66  issue 7   
     Volume 66  issue 8   
     Volume 66  issue 9   
     Volume 66  issue 10   
     Volume 66  issue 11   
     Volume 66  issue 12   
     Volume 66  issue 13   
     Volume 66  issue 14   
     Volume 66  issue 15   
     Volume 66  issue 16   
     Volume 66  issue 17   
     Volume 66  issue 18   
     Volume 66  issue 19   
     Volume 66  issue 20   
     Volume 66  issue 21   
     Volume 66  issue 22   
     Volume 66  issue 23   
     Volume 66  issue 24   
     Volume 66  issue 25   
     Volume 66  issue 26   
     Volume 67  issue 1   
     Volume 67  issue 2   
     Volume 67  issue 3   
     Volume 67  issue 4   
     Volume 67  issue 5   
     Volume 67  issue 6   
     Volume 67  issue 7   
     Volume 67  issue 8   
     Volume 67  issue 9   
     Volume 67  issue 10   
     Volume 67  issue 11   
     Volume 67  issue 12   
     Volume 67  issue 13   
     Volume 67  issue 14   
     Volume 67  issue 15   
     Volume 67  issue 16   
     Volume 67  issue 17   
     Volume 67  issue 18   
     Volume 67  issue 19   
     Volume 67  issue 20   
     Volume 67  issue 21   
     Volume 67  issue 22   
     Volume 67  issue 23   
     Volume 67  issue 24   
     Volume 67  issue 25   
     Volume 67  issue 26   
31. Impact ionization coefficients in Si1−xGex
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  2,   1995,   Page  204-205

J. Lee,   A. L. Gutierrez‐Aitken,   S. H. Li,   P. K. Bhattacharya,  

Preview   |   PDF (99KB)

32. Spatial collection efficiency of a solar cell
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  2,   1995,   Page  206-208

J. Sinkkonen,   J. Ruokolainen,   P. Uotila,   A. Hovinen,  

Preview   |   PDF (72KB)

33. Band offset atp‐ZnTe/p‐ZnSe heterointerface
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  2,   1995,   Page  209-211

M. Ukita,   F. Hiei,   K. Nakano,   A. Ishibashi,  

Preview   |   PDF (129KB)

34. InAlAs/InGaAs high electron mobility transistors on low temperature InAlAs buffer layers by metalorganic chemical vapor deposition
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  2,   1995,   Page  212-214

N. Pan,   J. Elliott,   H. Hendriks,   L. Aucoin,   P. Fay,   I. Adesida,  

Preview   |   PDF (109KB)

35. Evidence for cathodoluminescence from SiOxin porous Si
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  2,   1995,   Page  215-217

T. Suzuki,   T. Sakai,   L. Zhang,   Y. Nishiyama,  

Preview   |   PDF (75KB)

36. Normal incidence intersubband absorption in vertical quantum wells
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  2,   1995,   Page  218-220

V. Berger,   G. Vermeire,   P. Demeester,   C. Weisbuch,  

Preview   |   PDF (154KB)

37. Preparation and ferroelectric properties of SrBi2Ta2O9thin films
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  2,   1995,   Page  221-223

Kazushi Amanuma,   Takashi Hase,   Yoichi Miyasaka,  

Preview   |   PDF (253KB)

38. Scanning tunneling microscopy of etched HgTe/CdTe superlattices
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  2,   1995,   Page  224-226

T. H. Myers,   A. N. Klymachyov,   C. M. Vitus,   N. S. Dalal,   D. Endres,   K. A. Harris,   R. W. Yanka,   L. M. Mohnkern,  

Preview   |   PDF (312KB)

39. Study of exciton dynamics in InGaAs/InP quantum wells using a femtosecond optical parametric amplifier
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  2,   1995,   Page  227-229

M. Nisoli,   V. Magni,   S. De Silvestri,   O. Svelto,   D. Campi,   C. Coriasso,  

Preview   |   PDF (55KB)

40. Picovoltmeter based on a high transition temperature SQUID
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  2,   1995,   Page  230-232

A. H. Miklich,   D. Koelle,   F. Ludwig,   D. T. Nemeth,   E. Dantsker,   John Clarke,  

Preview   |   PDF (86KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第4页 共47条