Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1995
当前卷期:Volume 66  issue 18     [ 查看所有卷期 ]

年代:1995
 
     Volume 66  issue 1   
     Volume 66  issue 2   
     Volume 66  issue 3   
     Volume 66  issue 4   
     Volume 66  issue 5   
     Volume 66  issue 6   
     Volume 66  issue 7   
     Volume 66  issue 8   
     Volume 66  issue 9   
     Volume 66  issue 10   
     Volume 66  issue 11   
     Volume 66  issue 12   
     Volume 66  issue 13   
     Volume 66  issue 14   
     Volume 66  issue 15   
     Volume 66  issue 16   
     Volume 66  issue 17   
     Volume 66  issue 18
     Volume 66  issue 19   
     Volume 66  issue 20   
     Volume 66  issue 21   
     Volume 66  issue 22   
     Volume 66  issue 23   
     Volume 66  issue 24   
     Volume 66  issue 25   
     Volume 66  issue 26   
     Volume 67  issue 1   
     Volume 67  issue 2   
     Volume 67  issue 3   
     Volume 67  issue 4   
     Volume 67  issue 5   
     Volume 67  issue 6   
     Volume 67  issue 7   
     Volume 67  issue 8   
     Volume 67  issue 9   
     Volume 67  issue 10   
     Volume 67  issue 11   
     Volume 67  issue 12   
     Volume 67  issue 13   
     Volume 67  issue 14   
     Volume 67  issue 15   
     Volume 67  issue 16   
     Volume 67  issue 17   
     Volume 67  issue 18   
     Volume 67  issue 19   
     Volume 67  issue 20   
     Volume 67  issue 21   
     Volume 67  issue 22   
     Volume 67  issue 23   
     Volume 67  issue 24   
     Volume 67  issue 25   
     Volume 67  issue 26   
31. Surface dynamics during CdTe growth by molecular beam epitaxy
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  18,   1995,   Page  2397-2399

A. Arnoult,   J. Cibert,  

Preview   |   PDF (72KB)

32. Characterization of iron based precipitates in GaAs layers grown by molecular‐beam epitaxy
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  18,   1995,   Page  2400-2402

M. W. Bench,   C. B. Carter,   Feng Wang,   P. I. Cohen,  

Preview   |   PDF (207KB)

33. GeSi/Si bistable diode exhibiting a large on/off conductance ratio
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  18,   1995,   Page  2403-2405

X. Zheng,   T. K. Carns,   K. L. Wang,  

Preview   |   PDF (408KB)

34. Substitutionality of Ge atoms in ion implanted AlSb
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  18,   1995,   Page  2406-2408

Kin Man Yu,   A. J. Moll,   Ning Chan,   W. Walukiewicz,   P. Becla,  

Preview   |   PDF (63KB)

35. Titanium dioxide photocatalysts produced by reactive magnetron sputtering
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  18,   1995,   Page  2409-2411

B. R. Weinberger,   R. B. Garber,  

Preview   |   PDF (197KB)

36. n‐type doping of the diluted magnetic semiconductor Zn1−xMnxSe
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  18,   1995,   Page  2412-2414

H. Abad,   B. T. Jonker,   W. Y. Yu,   S. Stoltz,   A. Petrou,  

Preview   |   PDF (80KB)

37. Across wafer etch rate uniformity in a high density plasma reactor: Experiment and modeling
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  18,   1995,   Page  2415-2417

M. Surendra,   C. R. Guarnieri,   G. S. Selwyn,   M. Dalvie,  

Preview   |   PDF (105KB)

38. Stoichiometry and thickness variation of YBa2Cu3O7−xin off‐axis pulsed laser deposition
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  18,   1995,   Page  2418-2420

Z. Trajanovic,   L. Senapati,   R. P. Sharma,   T. Venkatesan,  

Preview   |   PDF (167KB)

39. Sensitive high‐Tctransition edge bolometer on a micromachined silicon membrane
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  18,   1995,   Page  2421-2423

H. Neff,   J. Laukemper,   I. A. Khrebtov,   A. D. Tkachenko,   E. Steinbeiss,   W. Michalke,   M. Burnus,   T. Heidenblut,   G. Hefle,   B. Schwierzi,  

Preview   |   PDF (59KB)

40. Substrate stress controlled magnetic domains in amorphous Terfenol‐D films
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  18,   1995,   Page  2424-2426

Quanmin Su,   Y. Zheng,   A. Roytburd,   Manfred Wuttig,  

Preview   |   PDF (552KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第4页 共44条