Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1995
当前卷期:Volume 66  issue 3     [ 查看所有卷期 ]

年代:1995
 
     Volume 66  issue 1   
     Volume 66  issue 2   
     Volume 66  issue 3
     Volume 66  issue 4   
     Volume 66  issue 5   
     Volume 66  issue 6   
     Volume 66  issue 7   
     Volume 66  issue 8   
     Volume 66  issue 9   
     Volume 66  issue 10   
     Volume 66  issue 11   
     Volume 66  issue 12   
     Volume 66  issue 13   
     Volume 66  issue 14   
     Volume 66  issue 15   
     Volume 66  issue 16   
     Volume 66  issue 17   
     Volume 66  issue 18   
     Volume 66  issue 19   
     Volume 66  issue 20   
     Volume 66  issue 21   
     Volume 66  issue 22   
     Volume 66  issue 23   
     Volume 66  issue 24   
     Volume 66  issue 25   
     Volume 66  issue 26   
     Volume 67  issue 1   
     Volume 67  issue 2   
     Volume 67  issue 3   
     Volume 67  issue 4   
     Volume 67  issue 5   
     Volume 67  issue 6   
     Volume 67  issue 7   
     Volume 67  issue 8   
     Volume 67  issue 9   
     Volume 67  issue 10   
     Volume 67  issue 11   
     Volume 67  issue 12   
     Volume 67  issue 13   
     Volume 67  issue 14   
     Volume 67  issue 15   
     Volume 67  issue 16   
     Volume 67  issue 17   
     Volume 67  issue 18   
     Volume 67  issue 19   
     Volume 67  issue 20   
     Volume 67  issue 21   
     Volume 67  issue 22   
     Volume 67  issue 23   
     Volume 67  issue 24   
     Volume 67  issue 25   
     Volume 67  issue 26   
31. Observation of strong contrast from doping variations in transmission electron microscopy of InP‐based semiconductor laser diodes
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  3,   1995,   Page  341-343

R. Hull,   F. A. Stevie,   D. Bahnck,  

Preview   |   PDF (401KB)

32. Quantitative two‐dimensional dopant profile measurement and inverse modeling by scanning capacitance microscopy
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  3,   1995,   Page  344-346

Y. Huang,   C. C. Williams,   J. Slinkman,  

Preview   |   PDF (60KB)

33. A new InP‐based heterojunction bipolar transistor utilizing an In0.53Al0.22Ga0.25As base
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  3,   1995,   Page  347-348

Y. H. Wu,   J. S. Su,   W. C. Hsu,   W. C. Liu,   W. Lin,  

Preview   |   PDF (60KB)

34. Photoconduction in porous TiO2sensitized by PbS quantum dots
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  3,   1995,   Page  349-351

P. Hoyer,   R. Ko¨nenkamp,  

Preview   |   PDF (62KB)

35. Comparison of triethylaluminum, triethylgallium, triethylindium, and triethylantimony on GaAs(100)
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  3,   1995,   Page  352-354

John M. Heitzinger,   M. S. Jackson,   J. G. Ekerdt,  

Preview   |   PDF (53KB)

36. Diffusion of implanted Be in AlxGa1−xAs as a function of Al concentration and anneal temperature
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  3,   1995,   Page  355-357

Cynthia C. Lee,   Michael D. Deal,   John C. Bravman,  

Preview   |   PDF (70KB)

37. Photodegradation of CdxZn1−xSe quantum wells
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  3,   1995,   Page  358-360

G. M. Haugen,   S. Guha,   H. Cheng,   J. M. DePuydt,   M. A. Haase,   G. E. Ho¨fler,   J. Qiu,   B. J. Wu,  

Preview   |   PDF (221KB)

38. Nanoscale InP islands embedded in InGaP
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  3,   1995,   Page  361-363

A. Kurtenbach,   K. Eberl,   T. Shitara,  

Preview   |   PDF (141KB)

39. Magnetophotoluminescence of biaxially compressed InAsSb quantum wells
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  3,   1995,   Page  364-366

S. R. Kurtz,   R. M. Biefeld,  

Preview   |   PDF (80KB)

40. TMGa /TEGa interactions in metalorganic molecular beam epitaxy
  Applied Physics Letters,   Volume  66,   Issue  3,   1995,   Page  367-369

M. Kamp,   G. Mo¨rsch,   H. Lu¨th,   V. Frese,  

Preview   |   PDF (80KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第4页 共50条