Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1991
当前卷期:Volume 59  issue 17     [ 查看所有卷期 ]

年代:1991
 
     Volume 58  issue 1   
     Volume 58  issue 2   
     Volume 58  issue 3   
     Volume 58  issue 4   
     Volume 58  issue 5   
     Volume 58  issue 6   
     Volume 58  issue 7   
     Volume 58  issue 8   
     Volume 58  issue 9   
     Volume 58  issue 10   
     Volume 58  issue 11   
     Volume 58  issue 12   
     Volume 58  issue 13   
     Volume 58  issue 14   
     Volume 58  issue 15   
     Volume 58  issue 16   
     Volume 58  issue 17   
     Volume 58  issue 18   
     Volume 58  issue 19   
     Volume 58  issue 20   
     Volume 58  issue 21   
     Volume 58  issue 22   
     Volume 58  issue 23   
     Volume 58  issue 24   
     Volume 58  issue 25   
     Volume 59  issue 1   
     Volume 59  issue 2   
     Volume 59  issue 3   
     Volume 59  issue 4   
     Volume 59  issue 5   
     Volume 59  issue 6   
     Volume 59  issue 7   
     Volume 59  issue 8   
     Volume 59  issue 9   
     Volume 59  issue 10   
     Volume 59  issue 11   
     Volume 59  issue 12   
     Volume 59  issue 13   
     Volume 59  issue 14   
     Volume 59  issue 15   
     Volume 59  issue 16   
     Volume 59  issue 17
     Volume 59  issue 18   
     Volume 59  issue 19   
     Volume 59  issue 20   
     Volume 59  issue 21   
     Volume 59  issue 22   
     Volume 59  issue 23   
     Volume 59  issue 24   
     Volume 59  issue 25   
     Volume 59  issue 26   
     Volume 59  issue 27   
41. Beam target interaction during growth of YBa2Cu3O7−xby the laser ablation technique
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  17,   1991,   Page  2186-2188

A. Cohen,   P. Allenspacher,   M. M. Brieger,   I. Jeuck,   H. Opower,  

Preview   |   PDF (318KB)

42. High‐speed magnetization reversal near the compensation temperature of amorphous GdTbFe
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  17,   1991,   Page  2189-2191

M. Aeschlimann,   A. Vaterlaus,   M. Lutz,   M. Stampanoni,   F. Meier,   H. C. Siegmann,   S. Klahn,   P. Hansen,  

Preview   |   PDF (438KB)

43. 50 nm linewidth platinum sidewall lithography by effusive‐source metal precursor chemical deposition and ion‐assisted etching
  Applied Physics Letters,   Volume  59,   Issue  17,   1991,   Page  2192-2194

David S. Y. Hsu,  

Preview   |   PDF (367KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第5页 共43条