Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1998
当前卷期:Volume 73  issue 19     [ 查看所有卷期 ]

年代:1998
 
     Volume 72  issue 1   
     Volume 72  issue 2   
     Volume 72  issue 3   
     Volume 72  issue 4   
     Volume 72  issue 5   
     Volume 72  issue 6   
     Volume 72  issue 7   
     Volume 72  issue 8   
     Volume 72  issue 9   
     Volume 72  issue 10   
     Volume 72  issue 11   
     Volume 72  issue 12   
     Volume 72  issue 13   
     Volume 72  issue 14   
     Volume 72  issue 15   
     Volume 72  issue 16   
     Volume 72  issue 17   
     Volume 72  issue 18   
     Volume 72  issue 19   
     Volume 72  issue 20   
     Volume 72  issue 21   
     Volume 72  issue 22   
     Volume 72  issue 23   
     Volume 72  issue 24   
     Volume 72  issue 25   
     Volume 72  issue 26   
     Volume 73  issue 1   
     Volume 73  issue 2   
     Volume 73  issue 3   
     Volume 73  issue 4   
     Volume 73  issue 5   
     Volume 73  issue 6   
     Volume 73  issue 7   
     Volume 73  issue 8   
     Volume 73  issue 9   
     Volume 73  issue 10   
     Volume 73  issue 11   
     Volume 73  issue 12   
     Volume 73  issue 13   
     Volume 73  issue 14   
     Volume 73  issue 15   
     Volume 73  issue 16   
     Volume 73  issue 17   
     Volume 73  issue 18   
     Volume 73  issue 19
     Volume 73  issue 20   
     Volume 73  issue 21   
     Volume 73  issue 22   
     Volume 73  issue 23   
     Volume 73  issue 24   
     Volume 73  issue 25   
     Volume 73  issue 26   
41. Resistive and structural properties ofLa1.85Sr0.15Cu1−yZnyO4films
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  19,   1998,   Page  2823-2825

Marta Z. Cieplak,   K. Karpin´ska,   J. Domagała,   E. Dynowska,   M. Berkowski,   A. Malinowski,   S. Guha,   M. Croft,   P. Lindenfeld,  

Preview   |   PDF (74KB)

42. Resistive transition of niobium superconducting hot-electron bolometer mixers
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  19,   1998,   Page  2826-2828

D. Wilms Floet,   J. J. A. Baselmans,   T. M. Klapwijk,   J. R. Gao,  

Preview   |   PDF (268KB)

43. Enhanced tunnel magnetoresistance at high bias voltage in double-barrier planar junctions
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  19,   1998,   Page  2829-2831

F. Montaigne,   J. Nassar,   A. Vaure`s,   F. Nguyen Van Dau,   F. Petroff,   A. Schuhl,   A. Fert,  

Preview   |   PDF (228KB)

44. Combined millimeter-wave near-field microscope and capacitance distance control for the quantitative mapping of sheet resistance of conducting layers
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  19,   1998,   Page  2832-2834

A. F. Lann,   M. Golosovsky,   D. Davidov,   A. Frenkel,  

Preview   |   PDF (87KB)

45. Hot electron emission lithography
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  19,   1998,   Page  2835-2837

M. Poppeller,   E. Cartier,   R. M. Tromp,  

Preview   |   PDF (196KB)

46. Giant effective pyroelectric coefficients from graded ferroelectric devices
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  19,   1998,   Page  2838-2840

F. Jin,   G. W. Auner,   R. Naik,   N. W. Schubring,   J. V. Mantese,   A. B. Catalan,   A. L. Micheli,  

Preview   |   PDF (288KB)

47. Self-limiting oxidation of copper
  Applied Physics Letters,   Volume  73,   Issue  19,   1998,   Page  2841-2843

J. C. Yang,   B. Kolasa,   J. M. Gibson,   M. Yeadon,  

Preview   |   PDF (827KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第5页 共47条