Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1996
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41. Effect of extended defects on the formation and dissociation kinetics of Zn–H complexes in heteroepitaxialp‐type InP layers
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  6,   1996,   Page  839-841

B. Chatterjee,   S. A. Ringel,  

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42. An optical correlator using a low‐temperature‐grown GaAs photoconductor
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  6,   1996,   Page  842-844

S. Verghese,   N. Zamdmer,   Qing Hu,   E. R. Brown,   A. Fo¨rster,  

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43. Surface morphology and growth mechanism of YBa2Cu3O7−yfilms by metalorganic chemical vapor deposition using liquid sources
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  6,   1996,   Page  845-847

Y. Yoshida,   Y. Ito,   I. Hirabayashi,   H. Nagai,   Y. Takai,  

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44. Ramp‐type junction parameter control by Ga doping of PrBa2Cu3O7−&dgr;barriers
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  6,   1996,   Page  848-850

M. A. J. Verhoeven,   G. J. Gerritsma,   H. Rogalla,   A. A. Golubov,  

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45. 1/felectrical noise in epitaxial thin films of the manganite oxides La0.67Ca0.33MnO3and Pr0.67Sr0.33MnO3
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  6,   1996,   Page  851-853

M. Rajeswari,   A. Goyal,   A. K. Raychaudhuri,   M. C. Robson,   G. C. Xiong,   C. Kwon,   R. Ramesh,   R. L. Greene,   T. Venkatesan,   S. Lakeou,  

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46. Study of ultrathin Y3Fe5O12/Gd3Ga5O12superlattices
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  6,   1996,   Page  854-856

M. Y. Chern,   C. C. Fang,   J. S. Liaw,   J. G. Lin,   C. Y. Huang,  

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47. In‐plane periodic bicrystallinity in magnetic thin films
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  6,   1996,   Page  857-859

M. Sussiau,   F. Nguyen‐Van‐Dau,   P. Galtier,   A. Schuhl,  

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48. Low temperature deposition of patterned TiO2thin films using photopatterned self‐assembled monolayers
  Applied Physics Letters,   Volume  69,   Issue  6,   1996,   Page  860-862

Rochael J. Collins,   Hyunjung Shin,   Mark R. DeGuire,   Arthur H. Heuer,   Chaim N. Sukenik,  

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