Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1984
当前卷期:Volume 44  issue 4     [ 查看所有卷期 ]

年代:1984
 
     Volume 44  issue 1   
     Volume 44  issue 2   
     Volume 44  issue 3   
     Volume 44  issue 4
     Volume 44  issue 5   
     Volume 44  issue 6   
     Volume 44  issue 7   
     Volume 44  issue 8   
     Volume 44  issue 9   
     Volume 44  issue 10   
     Volume 44  issue 11   
     Volume 44  issue 12   
     Volume 45  issue 1   
     Volume 45  issue 2   
     Volume 45  issue 3   
     Volume 45  issue 4   
     Volume 45  issue 5   
     Volume 45  issue 6   
     Volume 45  issue 7   
     Volume 45  issue 8   
     Volume 45  issue 9   
     Volume 45  issue 10   
     Volume 45  issue 11   
     Volume 45  issue 12   
41. Residual defects following rapid thermal annealing of shallow boron and boron fluoride implants into preamorphized silicon
  Applied Physics Letters,   Volume  44,   Issue  4,   1984,   Page  459-461

C. Carter,   W. Maszara,   D. K. Sadana,   G. A. Rozgonyi,   J. Liu,   J. Wortman,  

Preview   |   PDF (293KB)

42. Inhibition of acid etching of Pt by pre‐exposure to oxygen plasma
  Applied Physics Letters,   Volume  44,   Issue  4,   1984,   Page  462-464

M. J. Kim,   L. A. Gruenke,   R. J. Saia,   S. S. Cohen,  

Preview   |   PDF (231KB)

43. IVcurves of long annular Josephson junctions
  Applied Physics Letters,   Volume  44,   Issue  4,   1984,   Page  465-467

A. Davidson,   N. F. Pedersen,  

Preview   |   PDF (237KB)

44. High resolution electron beam lithography on CaF2
  Applied Physics Letters,   Volume  44,   Issue  4,   1984,   Page  468-469

P. M. Mankiewich,   H. G. Craighead,   T. R. Harrison,   A. H. Dayem,  

Preview   |   PDF (132KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第5页 共44条