Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1978
当前卷期:Volume 33  issue 4     [ 查看所有卷期 ]

年代:1978
 
     Volume 32  issue 1   
     Volume 32  issue 2   
     Volume 32  issue 3   
     Volume 32  issue 4   
     Volume 32  issue 5   
     Volume 32  issue 6   
     Volume 32  issue 7   
     Volume 32  issue 8   
     Volume 32  issue 9   
     Volume 32  issue 10   
     Volume 32  issue 11   
     Volume 32  issue 12   
     Volume 33  issue 1   
     Volume 33  issue 2   
     Volume 33  issue 3   
     Volume 33  issue 4
     Volume 33  issue 5   
     Volume 33  issue 6   
     Volume 33  issue 7   
     Volume 33  issue 8   
     Volume 33  issue 9   
     Volume 33  issue 10   
     Volume 33  issue 11   
     Volume 33  issue 12   
41. Erratum: Fabrication of deep square wave structures with micron dimensions by reactive sputter etching
  Applied Physics Letters,   Volume  33,   Issue  4,   1978,   Page  367-367

H. W. Lehmann,   R. Widmer,  

Preview   |   PDF (19KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第5页 共41条