Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1986
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年代:1986
 
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1. Improved performance of the discharge pumped HgBr and HgCl lasers by adding SF6
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  24,   1986,   Page  1633-1635

M. Sugii,   K. Sasaki,  

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2. Monolithic two‐dimensional arrays of high‐power GaInAsP/InP surface‐emitting diode lasers
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  24,   1986,   Page  1636-1638

J. N. Walpole,   Z. L. Liau,  

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3. Measurement of electrical characteristics and electron density in a fast discharge pumped XeCl excimer laser
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  24,   1986,   Page  1639-1641

J. E. Ford,   J. Meyer,   H. Houtman,  

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4. Millimeter wave absorption and refraction in tungsten bronze ferroelectrics
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  24,   1986,   Page  1642-1644

Bradley Bobbs,   Mehran Matloubian,   Harold R. Fetterman,   Ratnakar R. Neurgaonkar,   Warren K. Cory,  

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5. Radiation effects on phase separation and viscosity in a B2O3‐PbO glass
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  24,   1986,   Page  1645-1647

Isabelle Biron,   Alain Barbu,  

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6. Hydrogenated amorphous silicon formation by flux control and hydrogen effects on the growth mechanism
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  24,   1986,   Page  1648-1650

H. Toyoda,   H. Sugai,   K. Kato,   A. Yoshida,   T. Okuda,  

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7. Surface solidification and impurity segregation in amorphous silicon
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  24,   1986,   Page  1651-1653

P. S. Peercy,   J. M. Poate,   Michael O. Thompson,   J. Y. Tsao,  

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8. Temperature dependence for the onset of plastic yield in undoped and indium‐doped GaAs
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  24,   1986,   Page  1654-1655

H. M. Hobgood,   S. McGuigan,   J. A. Spitznagel,   R. N. Thomas,  

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9. Titanium‐doped semi‐insulating InP grown by the liquid encapsulated Czochralski method
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  24,   1986,   Page  1656-1657

G. W. Iseler,   Brian S. Ahern,  

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10. Ambient and dopant effects on boron diffusion in oxides
  Applied Physics Letters,   Volume  48,   Issue  24,   1986,   Page  1658-1660

C. Y. Wong,   F. S. Lai,  

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