Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1996
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1. Partial screening of internal electric fields in strained piezoelectric quantum well lasers: Implications for optoelectronic integration
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  12,   1996,   Page  1595-1597

A. S. Pabla,   J. Woodhead,   E. A. Khoo,   R. Grey,   J. P. R. David,   G. J. Rees,  

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2. Effect of facet roughness on etched‐facet semiconductor laser diodes
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  12,   1996,   Page  1598-1600

D. A. Francis,   C. J. Chang‐Hasnain,   K. Eason,  

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3. Optoelectronic feedback stabilization of current modulated laser diodes
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  12,   1996,   Page  1601-1603

Jaume Dellunde,   M. C. Torrent,  

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4. Ultrafast electro‐optic field sensors
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  12,   1996,   Page  1604-1606

Q. Wu,   X.‐C. Zhang,  

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5. A normal force distance regulation scheme for near‐field optical microscopy
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  12,   1996,   Page  1607-1609

R. J. Stephenson,   M. E. Welland,  

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6. Nonlinear self‐phase matching of optical second harmonic generation in lithium niobate
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  12,   1996,   Page  1610-1612

Sergei Orlov,   Amnon Yariv,   Mordechai Segev,  

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7. Optical characterization of waveguide based photonic microstructures
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  12,   1996,   Page  1613-1615

Thomas F. Krauss,   Richard M. De La Rue,  

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8. Direct observation of ultraviolet laser induced photocurrent in oxygen deficient silica and germanosilicate glasses
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  12,   1996,   Page  1616-1618

Victor N. Bagratashvili,   Svetlana I. Tsypina,   Pavel V. Chernov,   Aleksey O. Rybaltovskii,   Yuriy S. Zavorotny,   Sergey S. Alimpiev,   Yaroslav O. Simanovskii,   Liang Dong,   Philip St. J. Russel,  

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9. Symmetric rate model for fluorocarbon plasma etching of SiO2
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  12,   1996,   Page  1619-1621

Ji Ding,   Noah Hershkowitz,  

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10. Completely passivated high conductivity copper films made by annealing Cu/Al bilayers
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  12,   1996,   Page  1622-1624

Wei Wang,   W. A. Lanford,   S. P. Murarka,  

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