Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1986
当前卷期:Volume 49  issue 22     [ 查看所有卷期 ]

年代:1986
 
     Volume 48  issue 1   
     Volume 48  issue 2   
     Volume 48  issue 3   
     Volume 48  issue 4   
     Volume 48  issue 5   
     Volume 48  issue 6   
     Volume 48  issue 7   
     Volume 48  issue 8   
     Volume 48  issue 9   
     Volume 48  issue 10   
     Volume 48  issue 11   
     Volume 48  issue 12   
     Volume 48  issue 13   
     Volume 48  issue 14   
     Volume 48  issue 15   
     Volume 48  issue 16   
     Volume 48  issue 17   
     Volume 48  issue 18   
     Volume 48  issue 19   
     Volume 48  issue 20   
     Volume 48  issue 21   
     Volume 48  issue 22   
     Volume 48  issue 23   
     Volume 48  issue 24   
     Volume 48  issue 25   
     Volume 48  issue 26   
     Volume 49  issue 1   
     Volume 49  issue 2   
     Volume 49  issue 3   
     Volume 49  issue 4   
     Volume 49  issue 5   
     Volume 49  issue 6   
     Volume 49  issue 7   
     Volume 49  issue 8   
     Volume 49  issue 9   
     Volume 49  issue 10   
     Volume 49  issue 11   
     Volume 49  issue 12   
     Volume 49  issue 13   
     Volume 49  issue 14   
     Volume 49  issue 15   
     Volume 49  issue 16   
     Volume 49  issue 17   
     Volume 49  issue 18   
     Volume 49  issue 19   
     Volume 49  issue 20   
     Volume 49  issue 21   
     Volume 49  issue 22
     Volume 49  issue 23   
     Volume 49  issue 24   
     Volume 49  issue 25   
     Volume 49  issue 26   
1. Optimization of the discharge characteristics of a laser device employing a plasma electrode
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  22,   1986,   Page  1493-1495

Kenshi Nakamura,   Nobuo Yukawa,   Takehiro Mochizuki,   Shiro Horiguchi,   Toshizo Nakaya,  

Preview   |   PDF (208KB)

2. Phased‐array lasers with a uniform, stable supermode
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  22,   1986,   Page  1496-1498

W. Streifer,   M. Osin´ski,   D. R. Scifres,   D. F. Welch,   P. S. Cross,  

Preview   |   PDF (210KB)

3. Phase conjugate signal from Bi12SiO20crystal at elevated temperatures
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  22,   1986,   Page  1499-1501

Jae Heung Jo,   Sang Soo Lee,  

Preview   |   PDF (206KB)

4. Instabilities in external cavity injection lasers due to resonant self‐pulsing
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  22,   1986,   Page  1502-1504

P. Phelan,   J. O’Gorman,   J. McInerney,   D. Heffernan,  

Preview   |   PDF (245KB)

5. Direct measurement of dispersive nonlinearities in GaAs
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  22,   1986,   Page  1505-1507

Y. H. Lee,   A. Chavez‐Pirson,   B. K. Rhee,   H. M. Gibbs,   A. C. Gossard,   W. Wiegmann,  

Preview   |   PDF (227KB)

6. Contact structure formed in the Ni/Al/Si system due to rapid thermal melting
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  22,   1986,   Page  1508-1510

A. Katz,   Y. Komem,  

Preview   |   PDF (257KB)

7. Work function reduction of a tungsten surface due to cesium ion bombardment
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  22,   1986,   Page  1511-1513

G. S. Tompa,   W. E. Carr,   M. Seidl,  

Preview   |   PDF (245KB)

8. Morphology of Au/GaAs interfaces
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  22,   1986,   Page  1514-1516

Z. Liliental‐Weber,   J. Washburn,   N. Newman,   W. E. Spicer,   E. R. Weber,  

Preview   |   PDF (348KB)

9. Reversibility of recombination‐induced defect reactions in amorphous Si:H
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  22,   1986,   Page  1517-1518

David Redfield,  

Preview   |   PDF (184KB)

10. Model for heteroepitaxial growth of CdTe on (100) oriented GaAs substrate
  Applied Physics Letters,   Volume  49,   Issue  22,   1986,   Page  1519-1521

G. Cohen‐Solal,   F. Bailly,   M. Barbe´,  

Preview   |   PDF (254KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第1页 共22条