Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1979
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年代:1979
 
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1. The formation of Ga1−xAlxAs layers on the surface of GaAs during continual dissolution into Ga‐Al‐As solutions
  Applied Physics Letters,   Volume  35,   Issue  3,   1979,   Page  209-210

M. B. Small,   R. Ghez,   R. M. Potemski,   J. M. Woodall,  

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2. Self‐diffusion in intrinsic silicon
  Applied Physics Letters,   Volume  35,   Issue  3,   1979,   Page  211-213

Ludomir Kalinowski,   Remy Seguin,  

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3. Carbon and oxygen role for thermally induced microdefect formation in silicon crystals
  Applied Physics Letters,   Volume  35,   Issue  3,   1979,   Page  213-215

Seigoˆ Kishino,   Yoshiaki Matsushita,   Masaru Kanamori,  

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4. SAW dispersion and film‐thickness measurement by acoustic microscopy
  Applied Physics Letters,   Volume  35,   Issue  3,   1979,   Page  215-217

R. D. Weglein,  

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5. A new surface‐acoustic‐wave cut of quartz with orthogonal temperature‐compensated propagation directions
  Applied Physics Letters,   Volume  35,   Issue  3,   1979,   Page  217-219

Robert M. O’Connell,  

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6. Face dependence of the spin polarization of photoelectrons from NEA GaAs (100) and (110)
  Applied Physics Letters,   Volume  35,   Issue  3,   1979,   Page  220-222

D. T. Pierce,   G. C. Wang,   R. J. Celotta,  

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7. Niobium silicide formation induced by Ar‐ion bombardment
  Applied Physics Letters,   Volume  35,   Issue  3,   1979,   Page  222-224

T. Kanayama,   H. Tanoue,   T. Tsurushima,  

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8. Ion‐beam‐induced formation of the PdSi silicide
  Applied Physics Letters,   Volume  35,   Issue  3,   1979,   Page  225-227

B. Y. Tsaur,   S. S. Lau,   J. W. Mayer,  

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9. Annealing of phosphorus‐ion‐implanted silicon using a CO2laser
  Applied Physics Letters,   Volume  35,   Issue  3,   1979,   Page  227-229

M. Miyao,   K. Ohyu,   T. Tokuyama,  

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10. Efficiency enhancement in manganese‐doped zinc silicate phosphor with AlPO4substitution
  Applied Physics Letters,   Volume  35,   Issue  3,   1979,   Page  229-231

I. F. Chang,   M. W. Shafer,  

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