Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1991
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年代:1991
 
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1. Wavelength‐dependent amplification characteristics of femtosecond erbium‐doped optical fiber amplifiers
  Applied Physics Letters,   Volume  58,   Issue  25,   1991,   Page  2871-2873

Kenji Kurokawa,   Masataka Nakazawa,  

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2. Electro‐optic AlGaAs spatial light deflector/modulator based on a grating phased array
  Applied Physics Letters,   Volume  58,   Issue  25,   1991,   Page  2874-2876

F. Vasey,   F. K. Reinhart,   R. Houdre´,   J. M. Stauffer,  

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3. All optical, high contrast absorptive modulation in an asymmetric Fabry–Perot e´talon
  Applied Physics Letters,   Volume  58,   Issue  25,   1991,   Page  2877-2879

J. F. Heffernan,   M. H. Moloney,   J. Hegarty,   J. S. Roberts,   M. Whitehead,  

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4. Double‐phase conjugated mirror and double color pumped oscillator in photorefractive InP:Fe
  Applied Physics Letters,   Volume  58,   Issue  25,   1991,   Page  2880-2882

V. Vieux,   P. Gravey,   N. Wolffer,   G. Picoli,  

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5. Nanosecond scale optical pulse separations in double‐exposure holographic interferometry for investigation of transient events
  Applied Physics Letters,   Volume  58,   Issue  25,   1991,   Page  2883-2885

Michael J. Ehrlich,   James W. Wagner,  

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6. Near‐diffraction‐limited angle‐switchable output beam from a broad‐area diode laser with an intracavity spatial phase controller
  Applied Physics Letters,   Volume  58,   Issue  25,   1991,   Page  2886-2888

J. P. Hohimer,   D. C. Craft,   G. A. Vawter,   D. R. Myers,  

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7. Low‐power, all‐optical nonlinear absorption in asymmetric double quantum wells
  Applied Physics Letters,   Volume  58,   Issue  25,   1991,   Page  2889-2891

P. Dawson,   I. Galbraith,   A. I. Kucharska,   C. T. Foxon,  

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8. Enhancement of field‐induced optical absorption by potential modification of coupled quantum well structures
  Applied Physics Letters,   Volume  58,   Issue  25,   1991,   Page  2892-2894

Y. C. Chan,   K. Tada,  

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9. Etching polyimide films with continuous‐wave ultraviolet lasers
  Applied Physics Letters,   Volume  58,   Issue  25,   1991,   Page  2895-2897

R. Srinivasan,  

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10. Reactive ion etching of polycrystalline silicon using SiCl4
  Applied Physics Letters,   Volume  58,   Issue  25,   1991,   Page  2898-2900

Y. S. Tang,   C. D. W. Wilkinson,  

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