Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1996
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1. Optical behavior of alpha‐C:N films
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  9,   1996,   Page  1177-1179

X. Wang,   P. J. Martin,  

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2. Highly efficient phase conjugation using spatially nondegenerate four‐wave mixing in a broad‐area laser diode
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  9,   1996,   Page  1180-1182

Peter Ku¨rz,   Ron Nagar,   Takaaki Mukai,  

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3. Comparison of quasi‐phase‐matching geometries for second‐harmonic generation in poled polymer channel waveguides at 1.5 &mgr;m
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  9,   1996,   Page  1183-1185

M. Ja¨ger,   G. I. Stegeman,   W. Brinker,   S. Yilmaz,   S. Bauer,   W. H. G. Horsthuis,   G. R. Mo¨hlmann,  

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4. Modulation bandwidth of high‐power single quantum well buried heterostructure InGaAsP/InP (&lgr;=1.3 &mgr;m) and InGaAsP/GaAs (&lgr;=0.8 &mgr;m) laser diodes
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  9,   1996,   Page  1186-1188

I. E. Berishev,   A. Yu. Gorbachev,   V. A. Mishournyi,   N. D. Ilyinskaya,   A. L. Stankevich,   I. S. Tarasov,  

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5. Visible photoluminescence from Ge nanocrystal embedded into a SiO2matrix fabricated by atmospheric pressure chemical vapor deposition
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  9,   1996,   Page  1189-1191

Achyut Kumar Dutta,  

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6. White organic electroluminescence devices
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  9,   1996,   Page  1192-1194

R. H. Jordan,   A. Dodabalapur,   M. Strukelj,   T. M. Miller,  

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7. Criterion for selecting phonons and local vibrations involved in the nonradiative relaxation of photoexcited Cr4+ions in forsterite
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  9,   1996,   Page  1195-1197

S. G. Demos,   Dana M. Calistru,   R. R. Alfano,  

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8. 1/fnoise as an early indicator of electromigration damage in thin metal films
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  9,   1996,   Page  1198-1200

K. Dagge,   W. Frank,   A. Seeger,   H. Stoll,  

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9. Boron‐compensation effect on hydrogenated amorphous silicon with oxygen and nitrogen impurities
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  9,   1996,   Page  1201-1203

Masao Isomura,   Toshihiro Kinoshita,   Shinya Tsuda,  

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10. Growth of 6H–SiC on 6H–SiC(0001) by migration enhanced epitaxy controlled to an atomic level using surface superstructures
  Applied Physics Letters,   Volume  68,   Issue  9,   1996,   Page  1204-1206

Andreas Fissel,   Ute Kaiser,   Kay Pfennighaus,   Bernd Schro¨ter,   Wolfgang Richter,  

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