Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1989
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年代:1989
 
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1. Picosecond single‐mode pulse compression using a 1.3 &mgr;m Fabry–Perot laser diode, a dispersion‐shifted fiber, and a grating monochromator
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  23,   1989,   Page  2377-2379

Ryo Takahashi,   Hai‐Feng Liu,   Marek Osin´ski,   Takeshi Kamiya,  

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2. Recombination processes in quantum well lasers with superlattice barriers
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  23,   1989,   Page  2380-2382

P. Blood,   E. D. Fletcher,   C. T. Foxon,   K. Griffiths,  

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3. Widely tunable semiconductor optical fiber ring laser
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  23,   1989,   Page  2383-2385

Saeko Oshiba,   Kiyoshi Nagai,   Masato Kawahara,   Akira Watanabe,   Yoshio Kawai,  

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4. Mode locking of a continuous wave Nd:glass laser pumped by a multistripe diode laser
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  23,   1989,   Page  2386-2388

F. Krausz,   T. Brabec,   E. Wintner,   A. J. Schmidt,  

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5. Efficient coupling of a semiconductor laser to an optical fiber by means of a tapered waveguide on silicon
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  23,   1989,   Page  2389-2391

Y. Shani,   C. H. Henry,   R. C. Kistler,   K. J. Orlowsky,   D. A. Ackerman,  

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6. Recording of low spatial frequency gratings in photorefractive materials
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  23,   1989,   Page  2392-2393

T. D. Black,   A. Hafiz,   D. A. Larson,   R. Magnusson,  

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7. Second‐harmonic generation of interface waves
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  23,   1989,   Page  2394-2395

Y. W. Mao,   Y. Shui,   W. Jiang,   Z. Lu,   W. Wu,  

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8. Insitumonitoring of silicon nitride surface temperature from rotational temperature of a nitrogen molecule during rf glow discharge processing
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  23,   1989,   Page  2396-2398

Shin‐ichiro Ishihara,   Akira Otsuka,   Seiichi Nagata,  

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9. Thermal dependence of voiding in narrow aluminum microelectronic interconnects
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  23,   1989,   Page  2399-2401

Timothy D. Sullivan,  

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10. Reduction of interface‐state density by F2treatment in a metal‐oxide‐semiconductor diode prepared from a photochemical vapor deposited SiO2film
  Applied Physics Letters,   Volume  55,   Issue  23,   1989,   Page  2402-2404

Kohji Inoue,   Masakazu Nakamura,   Masanori Okuyama,   Yoshihiro Hamakawa,  

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