Applied Physics Letters


ISSN: 0003-6951        年代:1972
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年代:1972
 
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1. X‐Ray—Induced Variation of Time Constant of Yb+3Sensitizer
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  3,   1972,   Page  101-102

H. N. Hersh,   G. Ban,  

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2. Laser Diagnostics of a Potassium Plasma Using Selective Excitation Spectroscopy
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  3,   1972,   Page  102-104

R. M. Measures,   A. B. Rodrigo,  

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3. Acceptor State of Gold in Silicon—Resolution of an Anomaly
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  3,   1972,   Page  104-106

Louis C. Parrillo,   Walter C. Johnson,  

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4. Enhanced Annealing Effects in Boron‐Implanted Layers in Silicon by Postimplantation of Silicon Ions
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  3,   1972,   Page  107-109

L. ‐O. Bauer,  

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5. Neutron Damage in GaP Light‐Emitting Diodes
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  3,   1972,   Page  110-112

C. E. Barnes,  

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6. Effect of the Nonuniform dc Field on Carrier Waves in Negative‐Differential‐Mobility Semiconductors
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  3,   1972,   Page  112-114

M. Bini,   G. R. Bisio,  

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7. Scanning X‐Ray Emission Microscopy
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  3,   1972,   Page  115-116

H. J. Leamy,   S. D. Ferris,  

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8. Mode‐Selection Technique for Continuously Pumped RepetitivelyQ‐Switched Lasers
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  3,   1972,   Page  117-120

E. O. Ammann,   J. M. Yarborough,  

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9. Improved Infrared‐Response Technique for Determining Impurity and Defect Levels in Semiconductors
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  3,   1972,   Page  120-122

A. H. Sher,   W. J. Keery,  

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10. Selected‐Zone Dark‐Field Electron Microscopy
  Applied Physics Letters,   Volume  20,   Issue  3,   1972,   Page  122-125

Klaus Heinemann,   Helmut Poppa,  

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