Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1993
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11. Thermal diffusivity measurements on solids using collinear mirage detection
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  3,   1993,   Page  1539-1547

A. Salazar,   A. Sa´nchez‐Lavega,   J. Ferna´ndez,  

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12. Charge transfer cross section of He+in collisional helium plasma using the plasma immersion ion implantation technique
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  3,   1993,   Page  1548-1552

Shu Qin,   Chung Chan,   Jim Browning,   Steve Meassick,  

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13. Cathode sheath formation in a discharge‐sustained XeCl laser
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  3,   1993,   Page  1553-1567

A. Belasri,   J. P. Boeuf,   L. C. Pitchford,  

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14. Studies of electron‐beam penetration and free‐carrier generation in diamond films
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  3,   1993,   Page  1568-1574

R. P. Joshi,   K. H. Schoenbach,   C. Molina,   W. W. Hofer,  

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15. Water vapor controlling selective reactive ion etching of SiO2/Si in NF3plasma
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  3,   1993,   Page  1575-1578

M. Konuma,   E. Bauser,  

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16. A Monte Carlo simulation of resonance radiation transport in the rare‐gas–mercury positive column
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  3,   1993,   Page  1579-1589

Timothy J. Sommerer,  

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17. Annealing of silicon implanted by a high dose of cobalt ions investigated byinsitux‐ray diffraction
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  3,   1993,   Page  1590-1596

M. Mu¨ller,   D. Bahr,   W. Press,   R. Jebasinski,   S. Mantl,  

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18. Relaxation phenomena in the vicinity of the glass transition of poly (p‐phenylene sulfide)
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  3,   1993,   Page  1597-1605

Hiroshi Shimizu,   Kazuo Nakayama,  

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19. New controllable optical switching by the frequency modulation method in nematic liquid crystals
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  3,   1993,   Page  1606-1609

Akihiko Sugimura,   Zhong‐can Ou‐Yang,  

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20. Ion implantation and dry etching characteristics of InGaAsP (&lgr;=1.3 &mgr;m)
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  3,   1993,   Page  1610-1615

S. J. Pearton,   C. R. Abernathy,   P. W. Wisk,   F. Ren,  

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