Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
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11. Diameter‐dependent optical losses in pillar microcavities
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2875-2878

Tsutomu Tezuka,   Shinya Nunoue,  

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12. Diffraction of ultrasonic waves from elastic Galois gratings
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2879-2889

Bernadette Costa,   Antoine Folacci,   Paul Gabrielli,  

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13. Measurement of rotational and vibrational relaxation in gases by photoacoustic resonance: Application to SF6
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2890-2895

G. Lei,   B. Di Bartolo,  

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14. Negative surface ionization of hydrogen atoms and molecules
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2896-2901

M. Seidl,   H. L. Cui,   J. D. Isenberg,   H. J. Kwon,   B. S. Lee,   S. T. Melnychuk,  

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15. Electron swarm parameters in ramp electric fields
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2902-2908

H. Date,   P. L. G. Ventzek,   M. Shimozuma,   H. Tagashira,  

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16. Electron trapping in &agr;‐alumina observed by electron‐induced x‐ray emission
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2909-2912

P. Jonnard,   F. Vergand,   M. Kefi,   C. Bonnelle,  

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17. Electron beam fabrication and characterization of high‐resolution magnetic force microscopy tips
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2913-2919

M. Ru¨hrig,   S. Porthun,   J. C. Lodder,   S. McVitie,   L. J. Heyderman,   A. B. Johnston,   J. N. Chapman,  

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18. Transient effects of ionizing and displacive radiation on the dielectric properties of ceramics
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2920-2933

R. H. Goulding,   S. J. Zinkle,   D. A. Rasmussen,   R. E. Stoller,  

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19. Argon incorporation and silicon carbide formation during low energy argon‐ion bombardment of Si(100)
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2934-2941

J. S. Pan,   A. T. S. Wee,   C. H. A. Huan,   H. S. Tan,   K. L. Tan,  

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20. Diffusion controlled growth of metallic nanoclusters at selected surface sites
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2942-2947

G. M. Francis,   L. Kuipers,   J. R. A. Cleaver,   R. E. Palmer,  

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