Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
当前卷期:Volume 79  issue 11     [ 查看所有卷期 ]

年代:1996
 
     Volume 79  issue 1   
     Volume 79  issue 2   
     Volume 79  issue 3   
     Volume 79  issue 4   
     Volume 79  issue 5   
     Volume 79  issue 6   
     Volume 79  issue 7   
     Volume 79  issue 8   
     Volume 79  issue 9   
     Volume 79  issue 10   
     Volume 79  issue 11
     Volume 79  issue 12   
     Volume 80  issue 1   
     Volume 80  issue 2   
     Volume 80  issue 3   
     Volume 80  issue 4   
     Volume 80  issue 5   
     Volume 80  issue 6   
     Volume 80  issue 7   
     Volume 80  issue 8   
     Volume 80  issue 9   
     Volume 80  issue 10   
     Volume 80  issue 11   
     Volume 80  issue 12   
11. Frame decoupling at low frequency in thin porous layers saturated by air
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8223-8229

Anne Bardot,   Bruno Brouard,   Jean‐Franc¸ois Allard,  

Preview   |   PDF (156KB)

12. First‐order velocity shift and reflection coefficient for surface acoustic wave propagation
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8230-8246

C. Thoma,   Y. Hahn,  

Preview   |   PDF (326KB)

13. Langmuir probe measurements of discharge parameters in a Cs–Ba tacitron
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8247-8252

James R. Luke,   Mohamed S. El‐Genk,  

Preview   |   PDF (150KB)

14. Analytic investigation of the glow discharge anode region in elevated‐pressure electronegative gases
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8253-8257

R. Sh. Islamov,  

Preview   |   PDF (136KB)

15. Optimization of x‐ray sources for proximity lithography produced by a high average power Nd:glass laser
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8258-8268

P. Celliers,   L. B. Da Silva,   C. B. Dane,   S. Mrowka,   M. Norton,   J. Harder,   L. Hackel,   D. L. Matthews,   H. Fiedorowicz,   A. Bartnik,   J. R. Maldonado,   J. A. Abate,  

Preview   |   PDF (296KB)

16. Plasma impedance and electron density in a pulsed laser channel
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8269-8273

K. H. Tsui,   G. H. Cavalcanti,   A. S. Farias,   M. D. S. Marinha,   L. M. Soares,   C. A. Massone,  

Preview   |   PDF (117KB)

17. Evolution of shallow donors with proton fluence inn‐type silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8274-8277

E. Ntsoenzok,   P. Desgardin,   M. Saillard,   J. Vernois,   J. F. Barbot,  

Preview   |   PDF (70KB)

18. Damage in ion implanted silicon measured by x‐ray diffraction
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8278-8284

S. Milita,   M. Servidori,  

Preview   |   PDF (155KB)

19. The effects of flux, fluence and temperature on amorphization in ion implanted semiconductors
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8285-8289

G. Carter,  

Preview   |   PDF (116KB)

20. Spectral hole burning and uniaxial stress study of radiation‐induced defects in diamond
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8290-8293

A. Osvet,   V. Palm,   I. Sildos,  

Preview   |   PDF (118KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第2页 共114条