Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1990
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11. Optimal determination of the elastic constants of composite materials from ultrasonic wave‐speed measurements
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  6,   1990,   Page  2753-2761

Bernard Castagne`de,   James T. Jenkins,   Wolfgang Sachse,   Ste´phane Baste,  

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12. Propagation of high‐power microwave pulses in air breakdown environment
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  6,   1990,   Page  2762-2766

S. P. Kuo,   Y. S. Zhang,   Paul Kossey,  

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13. Dissociation and product formation in NF3radio‐frequency glow discharges
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  6,   1990,   Page  2767-2773

P. J. Hargis,   K. E. Greenberg,  

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14. Electron multiplication in the glow‐discharge cathode fall
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  6,   1990,   Page  2774-2788

Thomas C. Paulick,  

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15. Ion mobility measurements in a positive corona discharge
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  6,   1990,   Page  2789-2799

Richard G. Stearns,  

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16. Defect creation by 10‐keV electron irradiation in phosphorous‐dopeda‐Si:H
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  6,   1990,   Page  2800-2805

Suvarna Babras,   V. G. Bhide,   N. R. Rajopadhye,   S. V. Bhoraskar,  

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17. Thermal redistribution of iron implanted in Czochralski silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  6,   1990,   Page  2806-2809

B. Pivac,   A. Borghesi,   M. Geddo,   A. Stella,   L. Ottolini,  

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18. Monte Carlo simulation for the ion implantation of silicide heterostructures
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  6,   1990,   Page  2810-2814

Chin‐Liang Chang,   Jeng‐Rern Yang,   Juh Tzeng Lue,  

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19. Photothermal reflectance investigation of processed silicon. I. Room‐temperature study of the induced damage and of the annealing kinetics of defects in ion‐implanted wafers
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  6,   1990,   Page  2815-2821

Constantinos Christofides,   I. Alex Vitkin,   Andreas Mandelis,  

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20. Photothermal reflectance investigation of processed silicon. II. Signal generation and lattice temperature dependence in ion‐implanted and amorphous thin layers
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  6,   1990,   Page  2822-2830

I. Alex Vitkin,   Constantinos Christofides,   Andreas Mandelis,  

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