Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1990
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11. Heat conduction from a heated particle placed in a two‐phase medium with a dispersed phase size comparable to the particle size
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  3983-3989

A. S. Sangani,  

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12. Flow and temperature fields in a weld pool formed by a moving laser
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  3990-3998

V. Babu,   Seppo A. Korpela,   Natarajan Ramanan,  

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13. Particulate generation in silane/ammonia rf discharges
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  3999-4011

Harold M. Anderson,   Rahul Jairath,   Joseph L. Mock,  

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14. Measurement of Hg 6p 3P0,1,2state densities in the low‐pressure positive‐column Ar‐Hg discharge using 8s3S1–6p 3P0,1,2lines
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4012-4014

Tingsheng Lin,   Toshio Goto,   Toshihiko Arai,   Seiichi Murayama,  

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15. Influence of the dissociation process of oxygen on the electron swarm parameters in oxygen
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4015-4023

S. Kajita,   S. Ushiroda,   Y. Kondo,  

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16. Pulsed‐laser crystallization of amorphous silicon layers buried in a crystalline matrix
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4024-4035

A. Polman,   P. A. Stolk,   D. J. W. Mous,   W. C. Sinke,   C. W. T. Bulle‐Lieuwma,   D. E. W. Vandenhoudt,  

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17. Amorphization and solid‐phase epitaxial growth in tin‐ion‐implanted gallium arsenide
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4036-4041

Masafumi Taniwaki,   Hideto Koide,   Naoto Yoshimoto,   Toshimasa Yoshiie,   Somei Ohnuki,   Masao Maeda,   Koichi Sassa,  

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18. Highly uniform ion implants into GaAs by wafer rotation
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4042-4044

Naotaka Uchitomi,   Hitoshi Mikami,   Nobuyuki Toyoda,  

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19. Force measurement using an ac atomic force microscope
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4045-4052

William A. Ducker,   Robert F. Cook,   David R. Clarke,  

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20. As+and Ga+implantation and the formation of buried GaAs layers in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4053-4059

Peter Madakson,   Eti Ganin,   J. Karasinski,  

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