Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1995
当前卷期:Volume 78  issue 6     [ 查看所有卷期 ]

年代:1995
 
     Volume 77  issue 1   
     Volume 77  issue 2   
     Volume 77  issue 3   
     Volume 77  issue 4   
     Volume 77  issue 5   
     Volume 77  issue 6   
     Volume 77  issue 7   
     Volume 77  issue 8   
     Volume 77  issue 9   
     Volume 77  issue 10   
     Volume 77  issue 11   
     Volume 77  issue 12   
     Volume 78  issue 1   
     Volume 78  issue 2   
     Volume 78  issue 3   
     Volume 78  issue 4   
     Volume 78  issue 5   
     Volume 78  issue 6
     Volume 78  issue 7   
     Volume 78  issue 8   
     Volume 78  issue 9   
     Volume 78  issue 10   
     Volume 78  issue 11   
     Volume 78  issue 12   
11. Numerical simulation of streamer–cathode interaction
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  3635-3642

Igor Odrobina,   Mirko Cˇerna´k,  

Preview   |   PDF (1000KB)

12. Low‐pressure Cs‐Ba discharge. I. Model development
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  3643-3649

James R. Luke,   Mohamed S. El‐Genk,  

Preview   |   PDF (945KB)

13. Low‐pressure Cs‐Ba discharge. II. Probe measurements
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  3650-3658

James R. Luke,   Mohamed S. El‐Genk,  

Preview   |   PDF (1166KB)

14. Optimization of a high‐voltage trigatron switch
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  3659-3663

I. H. Mitchell,   P. Choi,   J. M. Bayley,   J. P. Chittenden,   J. F. Worley,  

Preview   |   PDF (725KB)

15. Effects of hydrostatic pressure on dopant diffusion in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  3664-3670

Heemyong Park,   Kevin S. Jones,   Jim A. Slinkman,   Mark E. Law,  

Preview   |   PDF (986KB)

16. A technology oriented model for transient diffusion and activation of boron in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  3671-3679

A. Ho¨fler,   Th. Feudel,   N. Strecker,   W. Fichtner,   K.‐H. Stegemann,   H. Syhre,   G. Dallmann,  

Preview   |   PDF (1188KB)

17. Antisite defects created in neutron irradiated GaP crystals
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  3680-3685

M. Palczewska,   J. Jasinski,   K. Korona,   M. Kaminska,   E. D. Bourret,   A. G. Elliot,  

Preview   |   PDF (785KB)

18. Comparison between deep level defects in GaAs induced by gamma, 1 MeV electron, and neutron irradiation
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  3686-3690

S. T. Lai,   D. Alexiev,   B. D. Nener,  

Preview   |   PDF (643KB)

19. Elastic strain relaxation in GaN–AlN–GaN semiconductor–insulator–semiconductor structures
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  3691-3696

A. D. Bykhovski,   B. L. Gelmont,   M. S. Shur,  

Preview   |   PDF (695KB)

20. Quantum‐well intermixing for optoelectronic integration using high energy ion implantation
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  3697-3705

S. Charbonneau,   P. J. Poole,   P. G. Piva,   G. C. Aers,   E. S. Koteles,   M. Fallahi,   J.‐J. He,   J. P. McCaffrey,   M. Buchanan,   M. Dion,   R. D. Goldberg,   I. V. Mitchell,  

Preview   |   PDF (1290KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第2页 共117条