Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1988
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年代:1988
 
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11. A transverse‐wave ultrasonic oblique‐incidence technique for interfacial weakness detection in adhesive bonds
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  300-307

Aleksander Pilarski,   Joseph L. Rose,  

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12. Nondiffusive velocity broadening in ion energy analyzer operation
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  308-314

H. Fujita,   S. Yagura,   K. Rypdal,  

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13. Tunneling microscopy of NbSe2in air
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  315-318

D. C. Dahn,   M. O. Watanabe,   B. L. Blackford,   M. H. Jericho,  

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14. Single crystals of Al‐Mn superlattice grown by molecular‐beam epitaxy
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  319-323

Yasuo Nishihata,   Masaaki Nakayama,   Naokatsu Sano,   Hikaru Terauchi,  

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15. Iron‐vacancy‐oxygen complex in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  324-326

Zhi‐pu You,   Min Gong,   Ji‐yong Chen,   J. W. Corbett,  

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16. Elastoplastic properties under shock compression of Al2O3single crystal and polycrystal
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  327-336

Tsutomu Mashimo,   Yasuharu Hanaoka,   Kunihito Nagayama,  

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17. Dynamic launch process of performed fragments
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  337-348

Padraic E. O’Donoghue,   William W. Predebon,   Charles E. Anderson,  

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18. Accounting for the crossover phenomenon in the response of longitudinal and transverse piezoresistance gauges in shock wave experiments
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  349-354

Z. Rosenberg,   N. S. Brar,  

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19. States of copper during diffusion in semi‐insulating GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  355-359

C. C. Tin,   C. K. Teh,   F. L. Weichman,  

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20. Influence of the substrate on the early stage of the growth of hydrogenated amorphous silicon evidenced by kinetic ellipsometry
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  360-367

A. M. Antoine,   B. Drevillon,  

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