Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
当前卷期:Volume 80  issue 8     [ 查看所有卷期 ]

年代:1996
 
     Volume 79  issue 1   
     Volume 79  issue 2   
     Volume 79  issue 3   
     Volume 79  issue 4   
     Volume 79  issue 5   
     Volume 79  issue 6   
     Volume 79  issue 7   
     Volume 79  issue 8   
     Volume 79  issue 9   
     Volume 79  issue 10   
     Volume 79  issue 11   
     Volume 79  issue 12   
     Volume 80  issue 1   
     Volume 80  issue 2   
     Volume 80  issue 3   
     Volume 80  issue 4   
     Volume 80  issue 5   
     Volume 80  issue 6   
     Volume 80  issue 7   
     Volume 80  issue 8
     Volume 80  issue 9   
     Volume 80  issue 10   
     Volume 80  issue 11   
     Volume 80  issue 12   
11. Efficiency and thermal stability of Pt gettering in crystalline Si
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4322-4327

A. Cacciato,   C. M. Camalleri,   G. Franco,   V. Raineri,   S. Coffa,  

Preview   |   PDF (270KB)

12. Failure in a shocked high‐density glass
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4328-4331

N. K. Bourne,   J. C. F. Millett,   Z. Rosenberg,  

Preview   |   PDF (83KB)

13. Lattice instability at a fast moving crack tip
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4332-4336

Y. W. Zhang,   T. C. Wang,  

Preview   |   PDF (112KB)

14. Effects of hydrogen addition onC44and ultrasonic attenuation of vanadium single crystals
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4337-4342

H. Kojima,   T. Sanada,   S. Koike,  

Preview   |   PDF (184KB)

15. Thermodynamic equation of state and application to Hugoniot predictions for porous materials
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4343-4349

Qiang Wu,   Fuqian Jing,  

Preview   |   PDF (142KB)

16. Diffusion‐limited layer growth in spherical geometry: A numerical approach
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4350-4353

L. Costa,   R. Vilar,  

Preview   |   PDF (88KB)

17. Sulphur diffusion at the Si/GaAs(110) interface
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4354-4357

H. Xia,   W. N. Lennard,   L. J. Huang,   W. M. Lau,   J.‐M. Baribeau,   D. Landheer,  

Preview   |   PDF (70KB)

18. Thermal diffusivity measurement of single fibers by an ac calorimetric method
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4358-4365

Tsuneyuki Yamane,   Shin‐ichiro Katayama,   Minoru Todoki,   Ichiro Hatta,  

Preview   |   PDF (164KB)

19. Depth dependence of ion implantation damage in AlxGa1−xAs/GaAs heterostructures
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4366-4371

B. A. Turkot,   B. W. Lagow,   I. M. Robertson,   D. V. Forbes,   J. J. Coleman,   L. E. Rehn,   P. M. Baldo,  

Preview   |   PDF (432KB)

20. Structural ordering in InGaAs/GaAs superlattices
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  8,   1996,   Page  4372-4376

Z. H. Ming,   Y. L. Soo,   S. Huang,   Y. H. Kao,   K. Stair,   G. Devane,   C. Choi‐Feng,  

Preview   |   PDF (83KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第2页 共86条