Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1991
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101. Optically controlled resonant tunneling in a double‐barrier diode
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  5,   1991,   Page  3384-3386

S. C. Kan,   S. Wu,   S. Sanders,   G. Griffel,   A. Yariv,  

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102. Raman‐microprobe study of stress and crystal orientation in laser‐crystallized silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  5,   1991,   Page  3387-3389

G. Kolb,   Th. Salbert,   G. Abstreiter,  

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103. Nonintrusive wafer temperature measurement usinginsituellipsometry
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  5,   1991,   Page  3390-3392

G. M. W. Kroesen,   G. S. Oehrlein,   T. D. Bestwick,  

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104. p‐type doping of GaSb by Ge and Sn grown by molecular beam epitaxy
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  5,   1991,   Page  3393-3395

K. F. Longenbach,   S. Xin,   W. I. Wang,  

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105. In‐diffusing divacancies as sources of acceptors in thermally annealed GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  5,   1991,   Page  3396-3398

Richard A. Morrow,  

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106. Epitaxial YBa2Cu3O7−ythin‐film growth on NdGaO3substrate by laser ablation
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  5,   1991,   Page  3399-3401

Masashi Mukaida,   Shintaro Miyazawa,   Masahiro Sasaura,   Hiroki Yonezawa,  

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107. Formation of iodinated nickel phthalocyanine thin films by double‐source evaporation of iodine and nickel phthalocyanine
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  5,   1991,   Page  3402-3403

M. Yudasaka,   K. Hironaga,   K. Nakanishi,  

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108. Radio frequency thermal plasma chemical vapor deposition of superconducting Y1Ba2Cu3O7−xfilms
  Journal of Applied Physics,   Volume  69,   Issue  5,   1991,   Page  3404-3406

H. Zhu,   Y. C. Lau,   E. Pfender,  

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