Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1973
当前卷期:Volume 44  issue 1     [ 查看所有卷期 ]

年代:1973
 
     Volume 44  issue 1
     Volume 44  issue 2   
     Volume 44  issue 3   
     Volume 44  issue 4   
     Volume 44  issue 5   
     Volume 44  issue 6   
     Volume 44  issue 7   
     Volume 44  issue 8   
     Volume 44  issue 9   
     Volume 44  issue 10   
     Volume 44  issue 11   
     Volume 44  issue 12   
101. GaAs&sngbnd;GaxAl1−xAs heterostructure lasers with amphoterically silicon‐doped active regions
  Journal of Applied Physics,   Volume  44,   Issue  1,   1973,   Page  529-530

F. H. Doerbeck,   D. M. Blacknall,   R. L. Carroll,  

Preview   |   PDF (147KB)

102. Variation of dc domain threshold in a nematic liquid crystal under continual dynamic scattering
  Journal of Applied Physics,   Volume  44,   Issue  1,   1973,   Page  531-531

F. E. Wargocki,   A. E. Lord,  

Preview   |   PDF (68KB)

103. A new class of switching materials
  Journal of Applied Physics,   Volume  44,   Issue  1,   1973,   Page  532-533

F. Bueche,  

Preview   |   PDF (110KB)

104. Calculated elastic constants for stress problems associated with semiconductor devices
  Journal of Applied Physics,   Volume  44,   Issue  1,   1973,   Page  534-535

W. A. Brantley,  

Preview   |   PDF (147KB)

105. Erratum: Profile estimation of high‐concentration arsenic diffusion in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  44,   Issue  1,   1973,   Page  536-536

R. B. Fair,  

Preview

首页 上一页 下一页 尾页 第11页 共105条