Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1995
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101. Positive nonlinear index of refraction in tellurium dioxide single crystals above the two‐photon absorption edge
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5840-5841

Yuichi Watanabe,   Masato Ohnishi,   Toshio Tsuchiya,   Naoyuki Ueda,   Hiroshi Kawazoe,  

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102. Compositional separation in Co‐Mn magnetic thin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5842-5844

David J. Rogers,   Yasushi Maeda,   Koji Takei,  

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103. An analytical approximation for the free electron density of the Hg1−xCdxTe alloy system for 0<x<1
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5845-5847

D. Goren,   G. Asa,   Y. Nemirovsky,  

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104. Depressed photoemission from Go¨rlich cathodes at high laser light intensities
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5848-5850

B. W. Boreham,   D. S. Newman,   R. Ho¨pfl,   H. Hora,  

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105. Modeling of YBa2Cu3O7weak links produced by oxygen‐ion modification
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5851-5853

S. S. Tinchev,  

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106. Comment on ‘‘Equation of state of aluminum nitride and its shock response’’ [J. Appl. Phys.76, 4077 (1994)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5854-5856

Z. Rosenberg,   N. S. Brar,  

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107. Reply to ‘‘Comment on ‘Equation of state of aluminum nitride and its shock response’ ’’ [J. Appl. Phys.78, 5854 (1995)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  9,   1995,   Page  5857-5858

Dattatraya P. Dandekar,   A. Abbate,   J. Frankel,  

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