Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
当前卷期:Volume 79  issue 11     [ 查看所有卷期 ]

年代:1996
 
     Volume 79  issue 1   
     Volume 79  issue 2   
     Volume 79  issue 3   
     Volume 79  issue 4   
     Volume 79  issue 5   
     Volume 79  issue 6   
     Volume 79  issue 7   
     Volume 79  issue 8   
     Volume 79  issue 9   
     Volume 79  issue 10   
     Volume 79  issue 11
     Volume 79  issue 12   
     Volume 80  issue 1   
     Volume 80  issue 2   
     Volume 80  issue 3   
     Volume 80  issue 4   
     Volume 80  issue 5   
     Volume 80  issue 6   
     Volume 80  issue 7   
     Volume 80  issue 8   
     Volume 80  issue 9   
     Volume 80  issue 10   
     Volume 80  issue 11   
     Volume 80  issue 12   
111. Polygonization of directionally solidified high critical current YBa2Cu3O6+x
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8847-8849

F. Sandiumenge,   N. Vilalta,   X. Obradors,   S. Pin˜ol,   J. Bassas,   Y. Maniette,  

Preview   |   PDF (396KB)

112. An experimental investigation on the effective magnetic anisotropy of nanocrystalline Fe89Zr7B4soft magnetic alloys
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8850-8852

F. Zhou,   K. Y. He,  

Preview   |   PDF (56KB)

113. Resonant Raman scattering study of InSb etched by reactive ion beam etching
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8853-8855

J. R. Sendra,   G. Armelles,   T. Utzmeier,   J. Anguita,   F. Briones,  

Preview   |   PDF (75KB)

114. Plasma deposition of amorphous SiC:H,F alloys from SiF4‐CH4‐H2mixtures under modulated conditions
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  11,   1996,   Page  8856-8858

G. Cicala,   P. Capezzuto,   G. Bruno,   L. Schiavulli,   G. Amato,  

Preview   |   PDF (82KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第12页 共114条