Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1995
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年代:1995
 
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111. Hydrogen‐induced quantum confinement in amorphous silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  4282-4284

Stephen K. O’Leary,   Stefan Zukotynski,   John M. Perz,  

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112. Photoreflectance of single buried Si1−xGexepilayers (0.12<x<0.24)
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  4285-4287

R. T. Carline,   T. J. C. Hosea,   D. J. Hall,  

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113. Femtosecond photoinduced dichroism in polydiacetylene 4bcmu film
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  4288-4290

L. X. Zheng,   Z. G. Feng,   F. Carl Knopf,  

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114. Structure and resistivity of vacancy‐ordered Sr2Ti2O5films in high‐Tcsuperconducting heterostructures
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  4291-4293

Chien Chen Diao,   Gin‐ichiro Oya,  

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115. Lateral mode behavior of reactive‐ion‐etched stable‐resonator semiconductor lasers
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  4294-4296

Stephen A. Biellak,   Yan Sun,   S. Simon Wong,   Anthony E. Siegman,  

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116. Diffusion limited oxygen precipitation in silicon: Precipitate growth kinetics and phase formation
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  4297-4299

Jan Vanhellemont,  

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117. Comment on ‘‘Equation of state for extrapolation of high‐pressure shock Hugoniot data’’ [J. Appl. Phys.65, 3852 (1989)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  78,   Issue  6,   1995,   Page  4300-4302

J. B. Johnson,  

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