Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1993
当前卷期:Volume 74  issue 4     [ 查看所有卷期 ]

年代:1993
 
     Volume 73  issue 1   
     Volume 73  issue 2   
     Volume 73  issue 3   
     Volume 73  issue 4   
     Volume 73  issue 5   
     Volume 73  issue 6   
     Volume 73  issue 7   
     Volume 73  issue 8   
     Volume 73  issue 9   
     Volume 73  issue 10   
     Volume 73  issue 11   
     Volume 73  issue 12   
     Volume 74  issue 1   
     Volume 74  issue 2   
     Volume 74  issue 3   
     Volume 74  issue 4
     Volume 74  issue 5   
     Volume 74  issue 6   
     Volume 74  issue 7   
     Volume 74  issue 8   
     Volume 74  issue 9   
     Volume 74  issue 10   
     Volume 74  issue 11   
     Volume 74  issue 12   
131. YBa2Cu3O7−&dgr;thin films and microstrip resonators on MgLaAl11O19substrates
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  4,   1993,   Page  2983-2985

G. C. Xiong,   G. J. Lian,   X. Zhu,   J. Li,   Z. Z. Gan,   D. Jing,   K. Shao,   H. Z. Guo,  

Preview   |   PDF (317KB)

132. Model of collisional sheath evolution in plasma source ion implantation
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  4,   1993,   Page  2986-2988

Dezhen Wang,   Tengcai Ma,   Xinlu Deng,  

Preview   |   PDF (319KB)

133. Retracing behavior of the phase‐matching angle of nonlinear crystals in optical parametric oscillators
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  4,   1993,   Page  2989-2991

Xiang Liu,   Daoqun Deng,   Ming Li,   Dongsheng Guo,   Zuyan Xu,  

Preview   |   PDF (325KB)

134. Erratum: ‘‘X‐ray diagnostics of a plasma‐jet‐liquid interaction in electrothermal guns’’ [J. Appl. Phys.73, 2145 (1993)]
  Journal of Applied Physics,   Volume  74,   Issue  4,   1993,   Page  2992-2992

A. Arensburg,   S. Wald,   S. Goldsmith,  

Preview   |   PDF (33KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第14页 共134条