Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1988
当前卷期:Volume 63  issue 1     [ 查看所有卷期 ]

年代:1988
 
     Volume 63  issue 1
     Volume 63  issue 2   
     Volume 63  issue 3   
     Volume 63  issue 4   
     Volume 63  issue 5   
     Volume 63  issue 6   
     Volume 63  issue 7   
     Volume 63  issue 8   
     Volume 63  issue 9   
     Volume 63  issue 10   
     Volume 63  issue 11   
     Volume 63  issue 12   
     Volume 64  issue 1   
     Volume 64  issue 2   
     Volume 64  issue 3   
     Volume 64  issue 4   
     Volume 64  issue 5   
     Volume 64  issue 6   
     Volume 64  issue 7   
     Volume 64  issue 8   
     Volume 64  issue 9   
     Volume 64  issue 10   
     Volume 64  issue 11   
     Volume 64  issue 12   
21. Hg content and thermal stability of the anodic sulfide films on Hg1−xCdxTe investigated by 30–40‐MeV O5+ion backscattering
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  1,   1988,   Page  132-135

T. Ippo¯shi,   K. Takita,   K. Murakami,   K. Masuda,   H. Kudo,   S. Seki,  

Preview   |   PDF (488KB)

22. Number of oxygen atoms in a thermal donor in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  1,   1988,   Page  136-141

D. K. Schroder,   C. S. Chen,   J. S. Kang,   X. D. Song,  

Preview   |   PDF (661KB)

23. Resonant tunneling in heterostructures: Numerical simulation and qualitative analysis of the current density
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  1,   1988,   Page  142-149

S. Collins,   David Lowe,   J. R. Barker,  

Preview   |   PDF (973KB)

24. Interface studies and electrical properties of plasma sulfide layers onn‐type InP
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  1,   1988,   Page  150-158

P. Klopfenstein,   G. Bastide,   M. Rouzeyre,   M. Gendry,   J. Durand,  

Preview   |   PDF (1035KB)

25. Microwave response of thin‐film superconductors
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  1,   1988,   Page  159-166

S. Sridhar,  

Preview   |   PDF (921KB)

26. Insituobservation of interactions between Bloch walls and local crystalline defects
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  1,   1988,   Page  167-171

U. Hartmann,  

Preview   |   PDF (515KB)

27. Magnetocrystalline anisotropy in Y1−xPrxCo5
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  1,   1988,   Page  172-175

L. Pareti,   O. Moze,   M. Solzi,   F. Bolzoni,  

Preview   |   PDF (394KB)

28. Theoretical study of irreversible jumps of 180° domain well separating infinitely long domains
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  1,   1988,   Page  176-182

Andrzej Roman,  

Preview   |   PDF (575KB)

29. Correlation of the concentration of the carbon‐associated radiation damage levels with the total carbon concentration in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  1,   1988,   Page  183-189

G. Ferenczi,   C. A. Londos,   T. Pavelka,   M. Somogyi,   A. Mertens,  

Preview   |   PDF (633KB)

30. Aluminum ion‐implantation enhanced intermixing of GaAs‐AlGaAs quantum‐well structures
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  1,   1988,   Page  190-194

K. Kash,   B. Tell,   P. Grabbe,   E. A. Dobisz,   H. G. Craighead,   M. C. Tamargo,  

Preview   |   PDF (534KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第3页 共48条