Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
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21. Stable nanostructuring of ultrathin porous silicon films by scanning tunneling microscopy
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2948-2953

M. Enachescu,   E. Hartmann,   F. Koch,  

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22. Atomic bonding in amorphous carbon alloys: A thermodynamic approach
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2954-2967

H. Efstathiadis,   Z. Akkerman,   F. W. Smith,  

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23. Debye‐temperature–elastic‐constants relationship for materials with hexagonal and tetragonal symmetry
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2968-2974

Hans Siethoff,   Karl Ahlborn,  

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24. Nanocrystalline metals prepared by low energy ball milling
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2975-2980

Dariusz Oleszak,   Paul H. Shingu,  

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25. Undercooling of bulk liquid silicon in an oxide flux
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2981-2985

Y. Shao,   F. Spaepen,  

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26. Grain boundary diffusion through thin films. Application to permeable surfaces
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2986-2994

W. Preis,   W. Sitte,  

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27. Open tube zinc diffusion into GaAs0.8P0.2using AlN and SiNxcap films
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  2995-3002

M. Ogihara,   M. Taninaka,   Y. Nakamura,  

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28. Diffusion at the Al/Al oxide interface during electromigration in wide lines
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  3003-3010

R. A. Augur,   R. A. M. Wolters,   W. Schmidt,   A. G. Dirks,   S. Kordic´,  

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29. Interpretation of double‐crystal x‐ray rocking curves in relaxed strained‐layer structures
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  3011-3015

M. A. Lourenc¸o,   D. J. Dunstan,  

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30. Critical points ofSi1−yCyandSi1−x−yGexCylayers strained pseudomorphically on Si(001)
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  6,   1996,   Page  3016-3020

W. Kissinger,   H. J. Osten,   M. Weidner,   M. Eichler,  

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