Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1980
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年代:1980
 
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21. Quasiresonant laser‐produced plasma: An efficient mechanism for localized breakdown
  Journal of Applied Physics,   Volume  51,   Issue  9,   1980,   Page  4682-4687

A. C. Tam,  

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22. A combined Monte Carlo diode simulation code
  Journal of Applied Physics,   Volume  51,   Issue  9,   1980,   Page  4688-4692

J. P. Quintenz,   M. M. Widner,  

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23. Diagnostics in a fast high‐densityz‐pinch
  Journal of Applied Physics,   Volume  51,   Issue  9,   1980,   Page  4693-4698

B. Hilko,   J. Meyer,   G. Albrecht,   H. Houtman,  

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24. Multiple equilibria in the oxygen positive column
  Journal of Applied Physics,   Volume  51,   Issue  9,   1980,   Page  4699-4705

D. A. Lee,   Frank D. Lewis,  

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25. The movement of elongated metal particles under high‐voltage stress in vacuum
  Journal of Applied Physics,   Volume  51,   Issue  9,   1980,   Page  4706-4717

G. A. Farrall,   F. G. Hudda,  

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26. Dependence of growth rate of quartz in fused silica on pressure and impurity content
  Journal of Applied Physics,   Volume  51,   Issue  9,   1980,   Page  4718-4728

V. J. Fratello,   J. F. Hays,   D. Turnbull,  

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27. Backscattering measurements of implanted ion distributions in double‐layer structures
  Journal of Applied Physics,   Volume  51,   Issue  9,   1980,   Page  4729-4734

H. Ishiwara,   W. D. Mackintosh,  

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28. Ion‐implantation‐induced damage and resonant levels inPb1−xSnxTe
  Journal of Applied Physics,   Volume  51,   Issue  9,   1980,   Page  4735-4738

K. H. Gresslehner,   L. Palmetshofer,  

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29. ZnTe extrinsic photodetector for visible integrated optics
  Journal of Applied Physics,   Volume  51,   Issue  9,   1980,   Page  4739-4741

H. Hamdi,   S. Valette,  

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30. Distribution of electrically active Mg implants in GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  51,   Issue  9,   1980,   Page  4742-4746

Byung Doo Choe,  

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