Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1992
当前卷期:Volume 72  issue 1     [ 查看所有卷期 ]

年代:1992
 
     Volume 71  issue 1   
     Volume 71  issue 2   
     Volume 71  issue 3   
     Volume 71  issue 4   
     Volume 71  issue 5   
     Volume 71  issue 6   
     Volume 71  issue 7   
     Volume 71  issue 8   
     Volume 71  issue 9   
     Volume 71  issue 10   
     Volume 71  issue 11   
     Volume 71  issue 12   
     Volume 72  issue 1
     Volume 72  issue 2   
     Volume 72  issue 3   
     Volume 72  issue 4   
     Volume 72  issue 5   
     Volume 72  issue 6   
     Volume 72  issue 7   
     Volume 72  issue 8   
     Volume 72  issue 9   
     Volume 72  issue 10   
     Volume 72  issue 11   
     Volume 72  issue 12   
21. The bonded unipolar silicon‐silicon junction
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  124-140

Stefan Bengtsson,   Gert I. Andersson,   Mats O. Andersson,   Olof Engstro¨m,  

Preview   |   PDF (2296KB)

22. Nondestructive technique to measure bulk lifetime and surface recombination velocities at the two surfaces by infrared absorption due to pulsed optical excitation
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  141-146

G. S. Kousik,   Z. G. Ling,   P. K. Ajmera,  

Preview   |   PDF (616KB)

23. Barrier voltage deformation of ZnO varistors by current pulse
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  147-150

E. R. Leite,   J. A. Varela,   E. Longo,  

Preview   |   PDF (499KB)

24. Electronic properties of a quantum wire with arbitrary bending angle
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  151-154

Hua Wu,   D. W. L. Sprung,   J. Martorell,  

Preview   |   PDF (456KB)

25. Study of surface states in (110)n‐GaAs by exoelectron emission measurements
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  155-157

T. A. Railkar,   R. S. Bhide,   S. V. Bhoraskar,   V. Manorama,   V. J. Rao,  

Preview   |   PDF (406KB)

26. Zero‐dimensional states in submicron double‐barrier heterostructures laterally constricted by hydrogen plasma isolation
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  158-160

M. Van Hove,   R. Pereira,   W. De Raedt,   G. Borghs,   R. Jonckheere,   C. Sala,   W. Magnus,   W. Schoenmaker,   M. Van Rossum,  

Preview   |   PDF (410KB)

27. Monte Carlo analysis of real‐space transfer in a three‐terminal device
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  161-167

M. B. Patil,   U. Ravaioli,  

Preview   |   PDF (877KB)

28. Effects of low work function metals on the barrier height of sulfide‐treatedn‐type GaAs(100)
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  168-173

J. E. Samaras,   Robert B. Darling,  

Preview   |   PDF (736KB)

29. High‐field transport properties of InAsxP1−x/InP (0.3≤x≤1.0) modulation‐ doped heterostructures at 300 and 77 K
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  174-178

D. Yang,   P. K. Bhattacharya,   W. P. Hong,   R. Bhat,   J. R. Hayes,  

Preview   |   PDF (551KB)

30. Semisolid solidification of high temperature superconducting oxides
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  179-190

Michael J. Cima,   Merton C. Flemings,   Anacleto M. Figueredo,   Masahiko Nakade,   Hideo Ishii,   Harold D. Brody,   John S. Haggerty,  

Preview   |   PDF (1959KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第3页 共64条