Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1997
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年代:1997
 
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21. Free-electron transport in semi-insulating GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  4,   1997,   Page  1656-1660

K. Khirouni,   J. C. Bourgoin,  

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22. Shift of surface Fermi level position toward the conduction band minimum by crystal defects near GaAs(001) surface
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  4,   1997,   Page  1661-1666

Y. Hirota,   F. Maeda,   Y. Watanabe,   T. Ogino,  

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23. Excitonic quantum confinement effects and exciton electroabsorption in semiconductor thin quantum boxes
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  4,   1997,   Page  1667-1677

Hideki Gotoh,   Hiroaki Ando,  

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24. Three-dimensional self-consistent simulation of interface and dopant disorders in delta-doped grid-gate quantum-dot devices
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  4,   1997,   Page  1678-1686

V. Y. Thean,   S. Nagaraja,   J. P. Leburton,  

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25. Intrinsic chaos in a dc field biased quantum heterostructure
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  4,   1997,   Page  1687-1695

A. Jason McNary,   Ashok Puri,  

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26. A study of electrically active defects created inp-InP byCH4:H2reactive ion etching
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  4,   1997,   Page  1696-1699

L. Goubert,   R. L. Van Meirhaeghe,   P. Clauws,   F. Cardon,   P. Van Daele,  

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27. Electronic and optical properties of periodically Si &dgr;-doped InP grown by low pressure metalorganic vapor phase epitaxy
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  4,   1997,   Page  1700-1705

P. L. Souza,   B. Yavich,   M. Pamplona-Pires,   A. B. Henriques,   L. C. D. Gonc¸alves,  

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28. Dynamics of the single barrier heterostructure hot electron diode
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  4,   1997,   Page  1706-1710

A. Reklaitis,   R. Stasch,   M. Asche,   R. Hey,   A. Krotkus,   E. Scho¨ll,  

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29. Control of stability and current-voltage characteristics in amorphous hydrogenated silicon nitride thin film diodes
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  4,   1997,   Page  1711-1715

B. McGarvey,   J. E. Curran,   R. A. Ford,   I. D. French,   I. G. Gale,   J. Hewett,   J. N. Sandoe,  

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30. Electrical properties of theTi(SiGe)2/Si0.89Ge0.11/Si(001)contact system
  Journal of Applied Physics,   Volume  82,   Issue  4,   1997,   Page  1716-1722

M. Lyakas,   M. Beregovsky,   M. Eizenberg,   F. Meyer,  

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