Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1990
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年代:1990
 
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31. Compensation in Ge‐doped InP
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  2,   1990,   Page  606-609

S. W. Sun,   B. W. Wessels,  

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32. Preparation, structure, and electric properties of plasma‐polymerized titanium‐containing organic thin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  2,   1990,   Page  610-616

Yoshiharu Kagami,   Takeshi Yamauchi,   Yoshihito Osada,   Isao Yoshizawa,  

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33. Ambipolar diffusion coefficient in molecular‐beam‐epitaxy‐grown silicon layers
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  2,   1990,   Page  617-620

V. Grivickas,   V. Netiksis,   D. Noreika,   M. Petrauskas,   M. Willander,   M.‐A. Hasan,   W.‐X. Ni,  

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34. A Monte Carlo study for minority‐electron transport inp‐GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  2,   1990,   Page  621-626

Hideaki Taniyama,   Masaaki Tomizawa,   Tomofumi Furuta,   Akira Yoshii,  

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35. Electrical resistivities of single‐crystalline transition‐metal disilicides
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  2,   1990,   Page  627-633

Toshiyuki Hirano,   Masatsugu Kaise,  

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36. Optimum (Cs,O)/GaAs interface of negative‐electron‐affinity GaAs photocathodes
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  2,   1990,   Page  634-637

Qing‐Bin Lu,   Yong‐Xi Pan,   Huairong Gao,  

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37. Effects of copper precipitation in &Sgr;=25 silicon bicrystals by deep‐level transient spectroscopy
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  2,   1990,   Page  638-645

J. F. Hamet,   R. Abdelaoui,   G. Nouet,  

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38. The effect of annealing temperature on electrical properties of Pd/n‐GaSb Schottky contacts
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  2,   1990,   Page  646-648

Y. K. Su,   N. Y. Li,   F. S. Juang,   S. C. Wu,  

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39. Performance limits for the scanning tunneling microscope
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  2,   1990,   Page  649-654

T. Tiedje,   A. Brown,  

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40. A contact limited precision of the quantized Hall resistance
  Journal of Applied Physics,   Volume  68,   Issue  2,   1990,   Page  655-662

Hiroshi Hirai,   Susumu Komiyama,  

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