Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1992
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31. Effects of reducing and oxidizing thermal treatments on epitaxial Bi2.1−xPbxSr2.9−yCayCu2O8+zfilms
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  191-195

G. Balestrino,   M. Marinelli,   E. Milani,   M. Montuori,   A. Paoletti,   P. Paroli,  

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32. Skin effect on the current‐voltage curves of YBaCuO rings up to 100 kHz
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  196-198

A. Perea,   J. L. Alvarez Rivas,  

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33. Growth and properties of a multilayer system based on Y1Ba2Cu3Oxand amorphous Y‐ZrO2
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  199-202

Yu. Boikov,   Z. G. Ivanov,   E. Olsson,   J. A. Alarco,   G. Brorsson,   T. Claeson,  

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34. Models for the stray field from magnetic tips used in magnetic force microscopy
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  203-206

A. Wadas,   H. J. Hug,  

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35. Magneto‐optical Faraday effect of polystyrene foils containing fine cobalt particles
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  207-210

Kenji Ohmori,   Takayuki Imamura,   Kazuhiro Yamaguchi,   Toshitaka Fujii,  

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36. Autler–Townes effect of the photoexcited diamond nitrogen‐vacancy center in its triplet ground state
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  211-217

Xing‐Fei He,   Peter T. H. Fisk,   Neil B. Manson,  

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37. Dielectric properties of CaNdAlO4at microwave frequencies
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  218-223

J. Konopka,   I. Wolff,   S. J. Lewandowski,  

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38. Tm+3decay in chromium‐thulium‐holmium‐doped yttrium aluminum garnet at liquid helium temperatures
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  224-228

S. R. Rotman,   Y. Kalisky,   A. Brenier,   C. Pedrini,   G. Boulon,   F. X. Hartmann,  

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39. Computer simulation of Si‐implanted GaAs (001) single crystals
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  229-233

Y. H. Lee,   T. W. Kang,   C. Y. Hong,   T. W. Kim,  

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40. Properties of hydrogenated amorphous silicon films prepared by low‐frequency (50 Hz) plasma‐enhanced chemical‐vapor deposition
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  234-238

G. Tochitani,   M. Shimozuma,   H. Tagashira,  

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