Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1992
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31. The dopant and compound forming behavior of As and Au impurities in Ga2Te3
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  2,   1992,   Page  744-749

K. Wuyts,   J. Watte´,   G. Langouche,   R. E. Silverans,   G. Ze´gbe´,   J. C. Jumas,  

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32. Increased surface voltage relaxation times in polyvinylidene fluoride films
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  2,   1992,   Page  750-752

P. Andry,   A. Y. Filion,   M. M. Perlman,  

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33. Surface trap creation in polyvinylidene fluoride and poly(vinylidene fluoride/trifluoroethylene) on peeling from a silicon substrate
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  2,   1992,   Page  753-755

P. Andry,   A. Y. Filion,   M. M. Perlman,  

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34. The electrical properties of metal‐sandwiched Langmuir–Blodgett multilayers and monolayers of a redox‐active organic molecular compound
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  2,   1992,   Page  756-768

N. J. Geddes,   J. R. Sambles,   D. J. Jarvis,   W. G. Parker,   D. J. Sandman,  

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35. Enhanced exciton absorption and saturation limit in strained InGaAs/InP quantum wells
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  2,   1992,   Page  769-772

Y. Jiang,   M. C. Teich,   W. I. Wang,  

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36. Dispersive photoconduction in Langmuir–Blodgett films of merocyanine dye
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  2,   1992,   Page  773-779

Michio Sugi,   Kazuhiro Saito,  

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37. The negative differential resistance behavior in delta‐doped GaAs structure due to resonant interband tunneling
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  2,   1992,   Page  780-782

M. P. Houng,   Y. H. Wang,   H. H. Chen,   H. C. Wei,   Y. H. Lee,  

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38. Effect of crystallites on surface potential variations of Au and graphite
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  2,   1992,   Page  783-785

J. B. Camp,   T. W. Darling,   Ronald E. Brown,  

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39. Electron trap studies in Al‐Ta‐O/CdSe thin‐film transistors using a hot electron injection method
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  2,   1992,   Page  786-790

Koji Nomura,   Hisahito Ogawa,  

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40. High‐temperature annealing behavior of &mgr;&tgr; products of electrons and holes ina‐Si:H
  Journal of Applied Physics,   Volume  71,   Issue  2,   1992,   Page  791-795

F. Wang,   R. Schwarz,  

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