Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1979
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年代:1979
 
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31. The extremum condition for the rate of cellular phase separation
  Journal of Applied Physics,   Volume  50,   Issue  9,   1979,   Page  5743-5746

Paul Hideo Shingu,  

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32. Kinetics and thermodynamics of the shape‐memory effect in martensitic NiTi and (Ni1−xCux)Ti alloys
  Journal of Applied Physics,   Volume  50,   Issue  9,   1979,   Page  5747-5756

O. Mercier,   K. N. Melton,  

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33. Exciton or hydrogen diffusion in SiO2?
  Journal of Applied Physics,   Volume  50,   Issue  9,   1979,   Page  5757-5760

Z. A. Weinberg,   D. R. Young,   D. J. DiMaria,   G. W. Rubloff,  

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34. Contact‐free conductivity of layered materials: Na &bgr;‐alumina
  Journal of Applied Physics,   Volume  50,   Issue  9,   1979,   Page  5761-5763

U. Strom,   P. C. Taylor,  

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35. Activation volume for self‐diffusion and for the diffusion of impurities in lead
  Journal of Applied Physics,   Volume  50,   Issue  9,   1979,   Page  5764-5767

C. Falter,   W. Zierau,   P. Varotsos,  

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36. Metal‐rich Pd‐silicide formation in thin‐film interactions
  Journal of Applied Physics,   Volume  50,   Issue  9,   1979,   Page  5768-5772

C. Canali,   L. Silvestri,   G. Celotti,  

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37. The formation of vanadium silicides at thin‐film interfaces
  Journal of Applied Physics,   Volume  50,   Issue  9,   1979,   Page  5773-5781

R. J. Schutz,   L. R. Testardi,  

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38. The pulse‐degradation characteristic of ZnO varistors
  Journal of Applied Physics,   Volume  50,   Issue  9,   1979,   Page  5782-5789

C. G. Shirley,   W. M. Paulson,  

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39. Thermal conductivity and electrical properties of 6Hsilicon carbide
  Journal of Applied Physics,   Volume  50,   Issue  9,   1979,   Page  5790-5794

E. A. Burgemeister,   W. von Muench,   E. Pettenpaul,  

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40. Electrical properties of Ge‐dopedp‐type AlxGa1−xAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  50,   Issue  9,   1979,   Page  5795-5799

S. Zukotynski,   S. Sumski,   M. B. Panish,   H. C. Casey,  

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