Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1988
当前卷期:Volume 63  issue 2     [ 查看所有卷期 ]

年代:1988
 
     Volume 63  issue 1   
     Volume 63  issue 2
     Volume 63  issue 3   
     Volume 63  issue 4   
     Volume 63  issue 5   
     Volume 63  issue 6   
     Volume 63  issue 7   
     Volume 63  issue 8   
     Volume 63  issue 9   
     Volume 63  issue 10   
     Volume 63  issue 11   
     Volume 63  issue 12   
     Volume 64  issue 1   
     Volume 64  issue 2   
     Volume 64  issue 3   
     Volume 64  issue 4   
     Volume 64  issue 5   
     Volume 64  issue 6   
     Volume 64  issue 7   
     Volume 64  issue 8   
     Volume 64  issue 9   
     Volume 64  issue 10   
     Volume 64  issue 11   
     Volume 64  issue 12   
31. Correlation between electrical and compositional properties of SiO2‐InSb interfaces
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  430-434

Y. Avigal,   J. Bregman,   Yoram Shapira,  

Preview   |   PDF (517KB)

32. Electrical activity of the first‐ and second‐order twins and grain boundaries in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  435-438

A. Bary,   G. Nouet,  

Preview   |   PDF (545KB)

33. Schottky junctions on CuInSe2films
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  439-441

I. Shih,   C. X. Qiu,   S. N. Qiu,   J. F. Huang,  

Preview   |   PDF (336KB)

34. Dependence of the electrical characteristics of organic‐on‐inorganic semiconductor contact barrier diodes on organic thin‐film composition
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  442-446

F. F. So,   S. R. Forrest,  

Preview   |   PDF (662KB)

35. Levitation of a magnet over a flat type II superconductor
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  447-450

F. Hellman,   E. M. Gyorgy,   D. W. Johnson,   H. M. O’Bryan,   R. C. Sherwood,  

Preview   |   PDF (565KB)

36. Defect structure in Ba2YCu3O7
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  451-455

S. Nakahara,   T. Boone,   M. F. Yan,   G. J. Fisanick,   D. W. Johnson,  

Preview   |   PDF (698KB)

37. A stochastic model for dielectric breakdown in thin capacitors
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  456-459

D. A. Willming,   C. H. Wu,  

Preview   |   PDF (451KB)

38. Photoluminescence study on the interface of a GaAs/AlxGa1−xAs heterostructure grown by metalorganic chemical vapor deposition
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  460-464

Katsuhiro Akimoto,   Koshi Tamamura,   Junko Ogawa,   Yoshifumi Mori,   Chiaki Kojima,  

Preview   |   PDF (505KB)

39. Continuous transition from multiple quantum‐well regime to superlattice regime in GaAlAs/GaAs system as observed by spectroscopic ellipsometry with high lateral resolution
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  465-474

M. Erman,   C. Alibert,   J. B. Theeten,   P. Frijlink,   B. Catte,  

Preview   |   PDF (1097KB)

40. Optical absorption of amorphous‐Si:H/amorphous‐SixN1−x:H multilayers: Effects of interface alloying
  Journal of Applied Physics,   Volume  63,   Issue  2,   1988,   Page  475-478

K. Mui,   F. W. Smith,  

Preview   |   PDF (413KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第4页 共66条