Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
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年代:1996
 
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31. Step‐flow epitaxial growth on two‐domain surfaces
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1423-1434

P. Desjardins,   J. E. Greene,  

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32. X‐ray scattering and absorption studies of MnAs/GaAs heterostructures
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1435-1440

S. Huang,   Z. H. Ming,   Y. L. Soo,   Y. H. Kao,   M. Tanaka,   H. Munekata,  

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33. Strain relaxation of Si/Ge multilayers: Coherent islands formation and their evolution as a function of the strain
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1441-1447

E. Carlino,   C. Giannini,   C. Gerardi,   L. Tapfer,   K. A. Ma¨der,   H. von Ka¨nel,  

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34. Void formation during film growth: A molecular dynamics simulation study
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1448-1457

Richard W. Smith,   David J. Srolovitz,  

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35. The estimation of the true area of contact between microscopic particles and a flat surface in adhesion contact
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1458-1463

F. Podczeck,   J. M. Newton,   M. B. James,  

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36. Growth kinetics of ultrathin silicon dioxide films formed by oxidation in a N2O ambient
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1464-1467

N. Koyama,   T. Endoh,   H. Fukuda,   S. Nomura,  

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37. A modified method of side data analysis of deep level transient spectroscopy spectra
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1468-1475

K. Dmowski,   D. Vuillaume,   B. Lepley,  

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38. Mechanism of charge transport in polypyrrole, poly(N‐methyl pyrrole) and their copolymers
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1476-1480

Ramadhar Singh,   Amarjeet K. Narula,   R. P. Tandon,   A. Mansingh,   Subhas Chandra,  

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39. Dispersion relation, electron and hole effective masses in InxGa1−xAs single quantum wells
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1481-1485

K. Oettinger,   Th. Wimbauer,   M. Drechsler,   B. K. Meyer,   H. Hardtdegen,   H. Lu¨th,  

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40. Noise characterization and device parameter extraction of ap‐type strained layer quantum‐well infrared photodetector
  Journal of Applied Physics,   Volume  79,   Issue  3,   1996,   Page  1486-1490

Daniel C. Wang,   Gijs Bosman,   Sheng S. Li,  

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