Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1986
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年代:1986
 
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41. Infrared study of the kinetics of oxidation in porous amorphous silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  5,   1986,   Page  1802-1807

R. R. Koropecki,   R. Arce,  

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42. Quantum‐statistical theory of microwave detection using superconducting tunnel junctions
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  5,   1986,   Page  1808-1828

I. A. Devyatov,   L. S. Kuzmin,   K. K. Likharev,   V. V. Migulin,   A. B. Zorin,  

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43. A magnetic field‐effect transistor
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  5,   1986,   Page  1829-1831

J. Mannhart,   R. P. Huebener,  

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44. Doping dependence of the Schottky‐barrier height of Ti‐Pt contacts ton‐gallium arsenide
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  5,   1986,   Page  1832-1833

R. F. Broom,   H. P. Meier,   W. Walter,  

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45. High mobility two‐dimensional hole gas in an Al0.26Ga0.74As/GaAs heterojunction
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  5,   1986,   Page  1834-1835

W. I. Wang,   E. E. Mendez,   Y. Iye,   B. Lee,   M. H. Kim,   G. E. Stillman,  

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46. Phase retardation dependent optical response time of parallel‐aligned liquid crystals
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  5,   1986,   Page  1836-1838

Shin‐Tson Wu,  

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47. Interpretation of29Si nuclear magnetic resonance spectra of amorphous hydrogenated silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  5,   1986,   Page  1839-1841

Shigenobu Hayashi,   Kikuko Hayamizu,   Satoshi Yamasaki,   Akihisa Matsuda,   Kazunobu Tanaka,  

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48. Graphical analysis of processes with multiple activation energies
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  5,   1986,   Page  1841-1843

Jalil Lachter,   Robert H. Bragg,   Elon Close,  

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49. Release behavior of shock loaded commercial alumina
  Journal of Applied Physics,   Volume  60,   Issue  5,   1986,   Page  1844-1846

Z. Rosenberg,   Y. Yeshurun,  

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