Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1992
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41. Microstructural analyses of amorphic diamond,i‐C, and amorphous carbon
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  239-245

C. B. Collins,   F. Davanloo,   D. R. Jander,   T. J. Lee,   J. H. You,   H. Park,   J. C. Pivin,   K. Glejbo&slash;l,   A. R. Tho¨le´n,  

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42. Diffusion effects and nucleation of thin film boron nitride growth from borazine on the Si(100) surface
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  246-252

S. M. Gates,   C.‐M. Chiang,   D. B. Beach,  

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43. Pore morphology and the mechanism of pore formation inn‐type silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  253-258

Peter C. Searson,   John M. Macaulay,   Frances M. Ross,  

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44. Current‐voltage curves of bipolar membranes
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  259-264

P. Rami´rez,   H. J. Rapp,   S. Reichle,   H. Strathmann,   S. Mafe´,  

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45. Closed‐form solution for the induction heating problem with rotational symmetry
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  265-269

A. M. Hussein,   P. P. Biringer,  

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46. High critical current density obtained by focused ion beam patterning of high temperature superconducting thin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  270-272

I. Zaquine,   G. Ben Assayag,   J. Gierak,   B. Dessertenne,   B. Marcilhac,   M. Mercandalli,   J. C. Mage,  

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47. Si:Sb blocked impurity band detectors for infrared astronomy
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  273-275

James E. Huffman,   A. G. Crouse,   B. L. Halleck,   T. V. Downes,   Terry L. Herter,  

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48. Si delta‐doped In0.15Ga0.85As/GaAs strained quantum well by atmospheric pressure metalorganic chemical vapor deposition
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  276-278

N. Pan,   J. Carter,   H. Hendriks,   M. H. Kim,  

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49. Band gap shrinkage in GaInAs/GaInAsP/InP multi‐quantum well lasers
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  279-281

S. H. Park,   J. I. Shim,   K. Kudo,   M. Asada,   S. Arai,  

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50. Effect of hydrogen dilution on the properties and bonding in plasma‐deposited silicon nitride
  Journal of Applied Physics,   Volume  72,   Issue  1,   1992,   Page  282-284

Richard E. Rocheleau,   Zhe Zhang,   David W. Niles,   Alice Mason,  

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