Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1990
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41. A knock‐on model to explain enhanced perimeter leakage in ion‐implanted metal‐oxide‐semiconductor structures
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4190-4202

M. G. Stinson,   C. M. Osburn,  

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42. Theory of the junction capacitance of an abrupt diode
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4203-4211

P. Van Mieghem,   R. P. Mertens,   R. J. Van Overstraeten,  

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43. Microwave‐detected optical response of YBa2Cu3O7−xthin films
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4212-4216

R. Kaplan,   W. E. Carlos,   E. J. Cukauskas,   J. Ryu,  

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44. Superconducting YBa2Cu3O7−&dgr;thin films with three different orientations
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4217-4220

X. K. Wang,   D. X. Li,   D. Q. Li,   Y. P. Lu,   S. N. Song,   Y. H. Shen,   J. Q. Zheng,   R. P. H. Chang,   J. B. Ketterson,   J. M. Chabala,   D. Hansley,   R. Levi‐Setti,  

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45. Energy‐level spectra of Co2+and Fe2+in diluted magnetic semiconductors
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4221-4232

Murielle Villeret,   S. Rodriguez,   E. Kartheuser,  

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46. The magnetic properties of Nd‐Fe‐B magnets produced by liquid dynamic compaction
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4233-4237

Tetsuji Harada,   Teiichi Ando,   Robert C. O’Handley,   Nicholas J. Grant,  

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47. Theoretical analysis of residual stress effects on the magnetostrictive properties of amorphous wires
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4238-4240

J. Liu,   R. Malmha¨ll,   L. Arnberg,   S. J. Savage,  

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48. Ellipsometric measurement of magneto‐optical Kerr rotation at normal incidence
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4241-4243

Shiuh Chao,   Long‐Jewel Yeh,   Tsong‐Jen Lo,   Tzuan‐Ren Jeng,  

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49. Photoluminescence studies of bound excitons in copper‐doped GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4244-4248

A. Villemaire,   S. Charbonneau,   T. Steiner,   M. L. W. Thewalt,  

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50. Role of boron in the multistable carbon‐related defect in silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  67,   Issue  9,   1990,   Page  4249-4252

Z. Su,   P. G. Wald,   J. W. Farmer,  

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