Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1996
当前卷期:Volume 80  issue 4     [ 查看所有卷期 ]

年代:1996
 
     Volume 79  issue 1   
     Volume 79  issue 2   
     Volume 79  issue 3   
     Volume 79  issue 4   
     Volume 79  issue 5   
     Volume 79  issue 6   
     Volume 79  issue 7   
     Volume 79  issue 8   
     Volume 79  issue 9   
     Volume 79  issue 10   
     Volume 79  issue 11   
     Volume 79  issue 12   
     Volume 80  issue 1   
     Volume 80  issue 2   
     Volume 80  issue 3   
     Volume 80  issue 4
     Volume 80  issue 5   
     Volume 80  issue 6   
     Volume 80  issue 7   
     Volume 80  issue 8   
     Volume 80  issue 9   
     Volume 80  issue 10   
     Volume 80  issue 11   
     Volume 80  issue 12   
41. Charge transport in silicon carbide: Atomic and microscopic effects
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  4,   1996,   Page  2260-2268

A. Schroeder,   R. Pelster,   V. Grunow,   W. Lennartz,   G. Nimtz,   K. Friederich,  

Preview   |   PDF (382KB)

42. Interaction of deep levels and potential fluctuations in scattering and recombination phenomena in semi‐insulating GaAs
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  4,   1996,   Page  2269-2278

V. Kazˇukauskas,   J. Storasta,   J.‐V. Vaitkus,  

Preview   |   PDF (176KB)

43. Electrical properties of a new polymer/photoresist composite
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  4,   1996,   Page  2279-2284

Paolo Bruschi,   Andrea Nannini,  

Preview   |   PDF (123KB)

44. Wannier–Stark localization in strained barrier GaAs/InXAl1−XAs superlattices
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  4,   1996,   Page  2285-2290

K. Tominaga,   M. Hosoda,   T. Watanabe,   K. Fujiwara,  

Preview   |   PDF (189KB)

45. Resonant tunneling of holes in double‐barrier structures in the presence of an in‐plane magnetic field
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  4,   1996,   Page  2291-2295

Jian‐Xin Zhu,   Z. D. Wang,   Chang‐De Gong,  

Preview   |   PDF (134KB)

46. Si, Be, and C ion implantation in GaAs0.93P0.07
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  4,   1996,   Page  2296-2299

J. W. Lee,   K. N. Lee,   S. J. Pearton,   C. R. Abernathy,   W. S. Hobson,   H. Han,   J. C. Zolper,  

Preview   |   PDF (367KB)

47. Transport properties of hydrogenatedp‐GaInAs doped with carbon
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  4,   1996,   Page  2300-2304

B. Theys,   F. Bourgeois,   J. Chevallier,   L. Svob,   M. Miloche,   R. Driad,   J. L. Benchimol,  

Preview   |   PDF (83KB)

48. Effective capture rates of carriers in amorphous hydrogenated silicon
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  4,   1996,   Page  2305-2310

P. Kounavis,   D. Mataras,   D. Rapakoulias,  

Preview   |   PDF (107KB)

49. The effect of the time dependent angular distribution of the intergrain magnetic field on the transport critical current in Ag‐(Bi,Pb)2Sr2Ca2Cu3Oxtapes
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  4,   1996,   Page  2311-2316

B. A. Glowacki,   H. Noji,   A. Oota,  

Preview   |   PDF (141KB)

50. Semiconductivity in YBa2−xSrxCu3Oy
  Journal of Applied Physics,   Volume  80,   Issue  4,   1996,   Page  2317-2320

A. Ulugˇ,   B. Ulugˇ,   E. S¸ener,  

Preview   |   PDF (94KB)

首页 上一页 下一页 尾页 第5页 共92条