Journal of Applied Physics


ISSN: 0021-8979        年代:1971
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41. Excitation and Doping Dependences of Electron Diffusion Length in GaAs Junction Lasers
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  757-761

C. J. Hwang,  

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42. Dynamic and Steady‐State Injection of Electron‐Hole Plasma inp‐Type InSb
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  762-773

B. Ancker‐Johnson,   Wm. P. Robbins,  

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43. Impulse Excitation of GaP Electroluminescent Diodes
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  774-782

J. S. Jayson,   R. W. Dixon,  

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44. Effect of Various Boundary Conditions on the Instabilities in Transferred Electron Bulk Oscillators
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  783-798

Pradeep L. Shah,   Thomas A. Rabson,  

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45. Tuning‐Initiated Failure in Avalanche Diodes
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  799-803

W. J. Evans,   D. L. Scharfetter,   R. L. Johnston,   P. L. Key,  

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46. Anomalous Electrical Properties ofp‐Type Hg1−xCdxTe
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  803-808

Walter Scott,   R. J. Hager,  

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47. Explosion of Bare and Insulated Copper Wires
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  809-814

B. K. Bhat,   I. B. Jordan,  

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48. Explosive Gas Blast: The Expansion of Detonation Products in Vacuum
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  815-829

Thomas J. Ahrens,   Charles F. Allen,   Robert L. Kovach,  

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49. Lamb‐Mo¨ssbauer Factor of Sodium Ferrocyanide
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  830-833

D. L. Decker,   L. E. Lortz,  

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50. Resistivity and Density of Ge Films Obliquely Deposited in Vacuum
  Journal of Applied Physics,   Volume  42,   Issue  2,   1971,   Page  833-836

Masaru Takahashi,   Hideomi Onishi,   Osamu Tada,  

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